[发明专利]光学的位置测量装置

权利要求书

1.一种光学的位置测量装置，具有整体量具(M)和扫描板(A)，所述整体量具和扫描板的相对彼此的位置能借助于多个干涉的光线在三个线性地相互独立的空间方向(X，Y，Z)上确定，其中，两个所述空间方向(X，Y)平行于所述整体量具(M)的平面并且平行于所述扫描板(A)的平面，并且第三空间方向(Z)利用一个分量垂直于两个所述空间方向，所述位置测量装置具有：布置在所述扫描板(A)上的分隔栅(Ga)，用于使光(L)分隔为不同衍射级的多条子射线(+1，0，-1)；布置在所述整体量具(M)上的光学的栅格(Gm)，用于进一步分隔所述子射线(+1，0，-1)并且用于使进一步分隔的所述子射线(+1，0，-1)在所述子射线反射之后由所述扫描板(A)重聚；在所述扫描板(A)的朝向所述整体量具(M)的侧面上的多个栅格区(A1-A4，B1-B4，X1-X4)，所述栅格区用作为影响在所述整体量具(M)上进一步分隔的所述子射线(+1，0，-1)的衍射的光学系统；布置在所述扫描板(A)上的分离栅格(Gk)，用于使多次在所述整体量具(M)和所述扫描板(A)之间反射的所述光作为干涉的子射线束分离，其特征在于，

多个构造为相栅的所述栅格区(A1-A4，B1-B4，X1-X4)的梯级高度(t1，t2，t3)是能变的。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述栅格区(A1-A4，B1-B4，X1-X4)以相同的梯级高度(t1，t2，t3)成对地相对于所述扫描板(A)的中心对称地布置。

3.根据权利要求2所述的装置，其特征在于，

所述扫描板(A)的所述中心位于所述分隔栅(Ga)和所述分离栅格(Gk)之间。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述扫描板(A)包括具有热膨胀系数接近零的玻璃陶瓷，在所述玻璃陶瓷上布置有一个层(S1)，所述栅格区(A1-A4，B1-B4，X1-X4)借助于蚀刻引入到所述层中。

5.根据权利要求4所述的装置，其特征在于，

所述层(S1)是二氧化硅层。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述扫描板(A)包括石英玻璃基底，所述栅格区(A1-A4，B1-B4，X1-X4)借助于蚀刻引入到所述石英玻璃基底中。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述扫描板(A)包括具有热膨胀系数接近零的玻璃陶瓷，在所述玻璃陶瓷上布置有多个具有不同折射率的层(S1，S2)的层堆叠体，并且所述栅格区(A1-A4，B1-B4，X1-X4)借助于蚀刻引入到所述层堆叠体中。

8.根据权利要求7所述的装置，其特征在于，

所述层堆叠体包括由二氧化硅和硅组成的多个层(S1，S2)。

9.根据权利要求1所述的装置，其特征在于，

所述位置测量装置利用单色的光源(Q)运行。