[发明专利]掩膜框架及制造方法和掩膜板

权利要求书

1.一种掩膜框架，所述掩膜框架包括主框架和多个遮挡条，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿所述主框架的蒸镀区，所述主框架上设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每个所述遮挡条对应一对所述第一容纳槽，所述遮挡条的两端分别设置在相应的两个第一容纳槽中，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应。

2.根据权利要求1所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架上设置有多对第二容纳槽和多个支撑条，两个所述第二容纳槽分别位于所述蒸镀区第二方向的两侧，所述第一方向和所述第二方向互相垂直，每个支撑条对应一对第二容纳槽，所述支撑条的两端分别设置在相应的两个第二容纳槽中。

3.根据权利要求2所述的掩膜框架，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应。

4.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体和开放式掩膜板，所述开放式掩膜板上形成有所述第一定位孔和所述第二定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述框架本体上还形成有环绕所述蒸镀区的第三容纳槽，所述开放式掩膜板设置在所述第三容纳槽中。

5.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体和两个第一定位条，所述第一定位条上形成有多个所述第一定位孔，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽形成在所述框架本体上，所述蒸镀区的第一方向的两侧各形成一个第四容纳槽，两个所述第一定位条分别设置在两个所述第四容纳槽中。

6.根据权利要求5所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架还包括两个第二定位条，所述第二定位条上形成有多个所述第二定位孔，所述第二容纳槽形成在所述框架本体上，所述蒸镀区的第二方向的两侧各形成一个第五容纳槽，两个所述第二定位条分别设置在两个所述第五容纳槽中。

7.根据权利要求3所述的掩膜框架，其特征在于，所述主框架包括框架本体，所述框架本体环绕所述蒸镀区，所述第一容纳槽、所述第二容纳槽、所述第一定位孔和所述第二定位孔均形成在所述框架本体上。

8.根据权利要求2至7中任意一项所述的掩膜框架，其特征在于，所述遮挡条的厚度小于或等于所述第一容纳槽的深度，所述支撑条的厚度小于或等于所述第二容纳槽的深度。

9.一种掩膜板，所述掩膜板包括掩膜框架和多个掩膜条，其特征在于，所述掩膜框架为权利要求1至8中任意一项所述的掩膜框架，多个所述掩膜条固定在所述主框架上，且一个所述掩膜条位于相邻两个所述遮挡条之间，所述掩膜条的边缘区与所述遮挡条重叠。

10.一种掩膜框架的制造方法，其特征在于，所述掩膜框架包括至少一对第一定位孔，所述制造方法包括：

提供主框架，所述主框架上形成有沿厚度方向贯穿所述主框架的蒸镀区，并设置有多对第一容纳槽，同一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽分别位于所述蒸镀区第一方向的两侧，每对所述第一定位孔对应一对所述第一容纳槽，且同一对所述第一定位孔中的两个第一定位孔分别与相应的一对第一容纳槽中的两个所述第一容纳槽位置对应；

以所述第一定位孔为基准，对与所述第一定位孔对应的第一容纳槽与遮挡条进行对位，对位准确后，将所述遮挡条的两端分别焊接在相应一对所述第一容纳槽中的两个第一容纳槽中。

11.根据权利要求10所述的制造方法，其特征在于，所述主框架上设置有多对第二容纳槽，两个所述第二容纳槽分别位于所述蒸镀区第二方向的两侧，所述第一方向和所述第二方向互相垂直，所述掩膜框架包括至少一对第二定位孔，每对所述第二定位孔对应一对所述第二容纳槽，且同一对所述第二定位孔中的两个第二定位孔分别与相应的一对第二容纳槽中的两个第二容纳槽位置对应，所述制造方法还包括：

以第二定位孔为基准，对与所述第二定位孔对应的第二容纳槽与支撑条进行对位，对位准确后，将所述支撑条的两端分别焊接在相应一对所述第二容纳槽中的两个第一容纳槽中。