[发明专利]一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法在审
申请号: | 201611126886.X | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN108219386A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 谢玉娟;宋振兴 | 申请(专利权)人: | 天津瑞赛可新材料科技有限公司 |
主分类号: | C08L67/02 | 分类号: | C08L67/02;C08L71/02;C08L39/06;C08K3/04;C08J5/18 |
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地址: | 300457 天津市滨海新区天津经济技术开*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 石墨烯 高分子复合薄膜 退火 混合物 聚对苯二甲酸乙二醇酯 锂离子电池负极材料 聚乙烯吡咯烷酮 超级电容器 高强度结构 聚环氧乙烯 复合薄膜 光伏器件 熔融共混 传感器 超强 冷却 无毒 环保 应用 | ||
本发明提供一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法。其步骤如下:1,聚对苯二甲酸乙二醇酯 1‑3份,石墨烯2‑4份,在285 °C下进行熔融共混1小时,冷却至60 °C得混合物A;2,混合物A,加入聚环氧乙烯1‑2份,聚乙烯吡咯烷酮1‑2份,搅拌并降低温度至室温;3退火:100 °C 退火 3 ‑5h 即可得到超强的复合薄膜。其具有制备简单,成本低廉,性能优异,环保无毒等优点,在制备高强度结构材料、超级电容器、光伏器件、锂离子电池负极材料以及传感器等方面具有重要的应用价值。
技术领域
本发明涉及一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法。
背景技术
石墨烯是一种单原子厚度的二维碳纳米材料,具有优异的光、电、热和力学性能,以及巨大的比表面积。石墨烯与高分子之间能够通过共价或非共价作用(氢键、π-π作用、静电作用等)进行复合。这些相互作用既增加了石墨烯在高分子中的溶解性或分散性,也可以提高复合材料的性能或拓展其功能. 目前常用的制 备石墨烯高分子复合材料的方法有溶液混合、熔融共混和原位聚合等。该类复合材料可以通过蒸发溶剂、溶液涂覆、真空抽滤、层层自组装等途径加工成相应的复合膜。但成本较高,性能不稳定。
发明内容
针对现有技术的不足,本发明所要解决的技术问题是,提供一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法,具有制备简单,成本低廉,性能优异,环保无毒等优点,在制备高强度结构材料、 超级电容器、光伏器件、锂离子电池负极材料以及传感器等方面具有重要的应用价值。
为解决上述技术问题,本发明采取的技术方案是,一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法,其步骤如下:1,聚对苯二甲酸乙二醇酯 1-3份,石墨烯2-4份,在285 °C下进行熔融共混1小时,冷却至60 °C得混合物A;2,混合物A,加入聚环氧乙烯1-2份,聚乙烯吡咯烷酮1-2份,搅拌并降低温度至室温;3退火:100 °C 退火 3 -5h 即可得到超强的复合薄膜。
本发明优化的技术方案是,一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法,其步骤如下:1,聚对苯二甲酸乙二醇酯 1份,石墨烯2份,在285 °C下进行熔融共混1小时,冷却至60 °C得混合物A;2,混合物A,加入聚环氧乙烯1份,聚乙烯吡咯烷酮1份,搅拌并降低温度至室温;3退火:100 °C 退火 3 h 即可得到超强的复合薄膜。
本发明优化的技术方案是,一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法,其步骤如下:1,聚对苯二甲酸乙二醇酯 3份,石墨烯4份,在285 °C下进行熔融共混1小时,冷却至60 °C得混合物A;2,混合物A,加入聚环氧乙烯2份,聚乙烯吡咯烷酮2份,搅拌并降低温度至室温;3退火:100 °C 退火5h 即可得到超强的复合薄膜。
本发明优化的技术方案是,一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法,其步骤如下:1,聚对苯二甲酸乙二醇酯 2份,石墨烯3份,在285 °C下进行熔融共混1小时,冷却至60 °C得混合物A;2,混合物A,加入聚环氧乙烯1份,聚乙烯吡咯烷酮1.5份,搅拌并降低温度至室温;3退火:100 °C 退火 4h 即可得到超强的复合薄膜。
本发明的有益效果是,本发明的石墨烯高分子复合薄膜的制备方法,具有制备简单,成本低廉,性能优异,环保无毒等优点,在制备高强度结构材料、 超级电容器、光伏器件、锂离子电池负极材料以及传感器等方面具有重要的应用价值。
具体实施方式
下面结合具体实施例,进一步阐述本发明。应理解,这些实施例仅用于说明本发明而不用于限制本发明的范围。此外应理解,在阅读了本发明的内容之后,本领域技术人员可以对本发明作各种改动或修改,这些等价形式同样落于本申请所限定的范围。
实施例1,
一种石墨烯高分子复合薄膜的制备方法,其步骤如下:
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