[发明专利]高轨SAR垂直向非均匀植被冠层后向散射系数模拟方法

权利要求书

1.一种高轨SAR垂直向非均匀植被冠层后向散射系数模拟方法，其特征在于包括以下步骤：

确定植被冠层组件的种类；

确定各种类植被冠层组件体密度的垂直向分布函数N_j(h)；

计算双矩阵算法中的薄层后向散射矩阵S与前向散射矩阵T；

计算植被冠层的后向散射系数；

其中，双矩阵算法中的薄层后向散射矩阵S与前向散射矩阵T的计算公式为：

式中：θ_i为入射角；θ_s为散射角；为入射方位角；为散射方位角；U^-1为对角阵，元素为散射方向的余弦；P为双站散射相矩阵；h为植被冠层组件在冠层中的位置；Δz为每一薄层厚度；N为单位薄层体积内的植被冠层组件密度；n为植被冠层组件的种类个数，j表示第j类植被冠层组件。

2.根据权利要求1所述的高轨SAR垂直向非均匀植被冠层后向散射系数模拟方法，其特征在于所述的植被冠层组件的种类为叶片、茎杆、枝条、果实或花朵。

3.根据权利要求1所述的高轨SAR垂直向非均匀植被冠层后向散射系数模拟方法，其特征在于所述的计算植被冠层的后向散射系数包括以下步骤：

计算上下两个微小薄层构成的厚度为2Δz的薄层的后向散射矩阵S′与前向散射矩阵T′；

重复上述计算得到需要厚度的介质层的后向散射矩阵S⁰；

计算后向散射系数σ⁰；

其中，后向散射矩阵S′与前向散射矩阵T′的计算公式为：

后向散射系数的计算公式为：σ⁰＝4πS⁰

式中，S₁为第一层的后向散射矩阵，T₁为第一层的前向散射矩阵，S₂为第二层的后向散射矩阵，T₂为第二层的前向散射矩阵，*表示入射方向反向入射时的后向及前向散射矩阵。