[发明专利]一种工作效率高的铜带清洗装置在审
申请号: | 201611121105.8 | 申请日: | 2016-12-08 |
公开(公告)号: | CN106733770A | 公开(公告)日: | 2017-05-31 |
发明(设计)人: | 王晓东 | 申请(专利权)人: | 无锡市东赫金属制品有限公司 |
主分类号: | B08B1/02 | 分类号: | B08B1/02;B08B3/02;B08B3/12;B24B9/04;F26B13/14;F26B21/00;F25B21/02 |
代理公司: | 苏州广正知识产权代理有限公司32234 | 代理人: | 徐萍 |
地址: | 214000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 工作效率 清洗 装置 | ||
技术领域
本发明涉及铜带清洗技术领域,具体为一种工作效率高的铜带清洗装置。
背景技术
铜带在生产加工的过程中,其表面不可避免的会附着杂质,这些杂质附着在铜带表面,不仅影响铜带的美观性,还会影响着铜带的后续加工过程。现在需要一种新型技术方案来解决上述问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种工作效率高的铜带清洗装置,具备能将铜带表面附着的杂质有效清除,使铜带能保持很好的美观性,避免铜带后续加工受到影响的优点,解决了铜带表面附着的杂质影响铜带美观性,影响铜带后续加工的问题。
为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种工作效率高的铜带清洗装置,包括清洗槽,所述清洗槽的一侧设置有放卷机构,所述清洗槽的另一侧设置有烘干箱,所述烘干箱远离清洗槽的一侧设置有冷却箱,所述冷却箱远离烘干箱的一侧设置有收卷机构,所述清洗槽的底部设置有排水管,所述清洗槽靠近放卷机构的一侧设置有进水管,所述清洗槽内部远离放卷机构的一侧依次设置有打磨辊组、去毛刺刷辊组、第一导向辊组、第二导向辊组、软刷辊组、第三导向辊组、U型储水管和清洗齿轮组,所述U型储水管的内侧设置有上喷头组和下喷头组,所述清洗齿轮组包括上清洗齿轮,所述上清洗齿轮的一侧设置有传动齿轮,所述上清洗齿轮通过传动齿轮与上清洗齿轮底部设置的下清洗齿轮传动连接,所述上清洗齿轮的底部和下清洗齿轮的顶部均设置有清洗刷层,所述第二导向辊组底部清洗槽的内底壁上设置有超声波发生器。
所述烘干箱的内部设置有第四导向辊组,所述第四导向辊组包括两个导向辊,两个导向辊的外侧面上均套设有棉布层,所述第四导向辊组远离清洗槽的一侧设置有烘干风机组。
所述冷却箱的内部设置有第五导向辊组,所述冷却箱上设置有贯穿其箱壁的导体,所述导体位于冷却箱上靠近收卷机构的一侧,所述导体位于冷却箱内部的一侧设置有冷端半导体,所述导体靠近收卷机构的一侧设置有热端半导体。
优选的,所述去毛刺刷辊组和软刷辊组均包括两个刷辊,所述去毛刺刷辊组的两个刷辊上均设置有毛刷层,所述软刷辊组的两个刷辊上均设置有软毛刷层,所述毛刷层的厚度大于软毛刷层。
优选的,所述上清洗齿轮的顶部设置有驱动电机,所述驱动电机上的转轴通过联轴器与上清洗齿轮相连接,所述驱动电机通过其两侧设置有固定杆与清洗槽两侧的侧壁相连接。
优选的,所述第二导向辊组位于第一导向辊组的下侧,所述第三导向辊组位于第一导向辊组的上侧。
优选的,所述冷端半导体和热端半导体的外形均呈S型弯曲状。
与现有技术相比,本发明的有益效果如下:
1、本发明通过去毛刺刷辊组、软刷辊组、清洗齿轮组、上喷头组、下喷头组、清洗刷层、超声波发生器、毛刷层和软毛刷层之间的相互配合使用,能将铜带上附着的杂质有效清除,有效提高铜带的美观性,使铜带的后续加工过程更加顺利,工作效率更高。
2、本发明通过设置第四导向辊组、棉布层和烘干风机组,能对清洗完成后的铜带进行烘干处理,有效减少铜带表面的水分,避免铜带生锈,通过设置导体、冷端半导体和热端半导体,能将烘干后的铜带快速冷却,避免在收卷过程中因高温而使工作人员烫伤,极大的方便了工作人员的工作,有效提高了工作人员的工作效率。
附图说明
图1为本发明结构剖面图;
图2为本发明结构示意图;
图3为本发明清洗齿轮组结构示意图。
图中:1清洗槽、2烘干箱、3冷却箱、4打磨辊组、5去毛刺刷辊组、6第一导向辊组、7第二导向辊组、8软刷辊组、9第三导向辊组、10 U型储水管、11清洗齿轮组、12上喷头组、13下喷头组、14上清洗齿轮、15传动齿轮、16下清洗齿轮、17清洗刷层、18超声波发生器、19第四导向辊组、20棉布层、21烘干风机组、22第五导向辊组、23导体、24冷端半导体、25热端半导体、26毛刷层、27软毛刷层、28驱动电机。
具体实施方式
下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
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