[发明专利]用于静电成像调色剂组合物的疏水二氧化硅

权利要求书

1.疏水二氧化硅粉末，其具有下述物理化学性质；

-平均初级粒度D为30-2000nm，

-B×D<430，其中，B代表当水的分压为水在25℃下平衡蒸汽压的80％时二氧化硅(100重量％)上所吸附的水蒸汽的重量％，和D代表二氧化硅粉末的平均初级粒度，以nm为单位，

-B/C<2.7，其中C代表当水的分压为水在25℃下平衡蒸汽压的20％时二氧化硅(100重量％)上所吸附的水蒸汽的重量％，和

-碳含量(重量％)>0.30。

2.权利要求1的疏水二氧化硅粉末，特征在于其疏水性高于50％。

3.权利要求1或2的疏水二氧化硅粉末，特征在于其是胶体二氧化硅粉末。

4.权利要求1-3中任一项的疏水二氧化硅粉末，特征在于长径比为1.0–1.5。

5.权利要求1的疏水二氧化硅粉末，特征在于所述疏水性高于55％。

6.权利要求1-5中任一项的疏水二氧化硅的制备方法，特征在于其包括下述步骤：

a.制备二氧化硅分散体，

b.干燥步骤a的分散体以得到亲水二氧化硅粉末，

c.在100-170℃间的温度老化处理步骤b的二氧化硅粉末，并且步骤c的温度高于步骤b的温度，

d.使所述步骤c的二氧化硅粉末疏水化。

7.权利要求6的疏水二氧化硅的制备方法，特征在于步骤a的二氧化硅分散体是通过使烷氧基硅烷或碱性水玻璃与酸反应制备。

8.权利要求6或7的疏水二氧化硅的制备方法，特征在于步骤b的干燥是在冷冻干燥机中实施的。

9.权利要求6-8中之一的疏水二氧化硅的制备方法，特征在于步骤c的老化处理是在干燥烘箱中实施的。

10.权利要求6-9中之一的疏水二氧化硅的制备方法，特征在于步骤d的疏水化是通过在步骤c的二氧化硅上喷洒疏水化试剂而实施的。

11.权利要求10的疏水二氧化硅的制备方法，特征在于所述疏水化试剂是烷基硅烷、聚二甲基硅氧烷或硅氮烷。

12.含有至少一种权利要求1-5中之一的疏水二氧化硅粉末的用于静电成像的调色剂组合物。