[发明专利]一种黄瓜的种植方法在审

专利信息
申请号: 201611119674.9 申请日: 2016-12-08
公开(公告)号: CN106613191A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 曾琼 申请(专利权)人: 曾琼
主分类号: A01G1/00 分类号: A01G1/00
代理公司: 广州市南锋专利事务所有限公司44228 代理人: 袁周珠
地址: 516157 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 黄瓜 种植 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种作物的种植方法,具体是一种黄瓜的种植方法,属于经济作物种植技术领域。

背景技术

黄瓜属葫芦科一年生蔓生植物,瓜长15-20厘米,直径约3厘米,它一般表皮上没有刺,而且口味甘甜,主要用来生食,作为一种菜新品,黄瓜一面世,就受到了市场的欢迎,黄瓜含丰富的丙醇二酸、黄瓜酶等活性物质和大量的维生素E,随着生活水平的提高和饮食观念的改变,人们开始注重食品的保健功能、黄瓜也因这些特点而迅速成为市场上较为畅销的蔬菜水果兼用产品。

发明内容

本发明提供了一种黄瓜的种植方法,该方法能够提高黄瓜的产量,且获得的黄瓜个大、水分足。

本发明通过以下技术方案得以实现:一种黄瓜的种植方法,包括以下步骤: S1,基地选择:选择富含有机质、排灌良好、保水保肥的偏粘性砂壤土,忌与瓜类作物连作,整地采用深沟高畦,畦宽1.8米-2.0米,畦高30厘米,南北走向,双行植,株距30厘米;

S2,选种催芽:选取饱满有光泽的黄瓜种子,浸种催芽在黄瓜播种中普遍应用,用50-55℃温开水烫种消毒10分钟,不断搅拌以防烫伤,然后用约30℃温水浸4-6小时,搓洗干净,涝起沥干,催芽;

S3,选芽育苗:选取幼芽植入育苗盘中,覆盖 1.2-2.0cm 的土壤,然后用多菌灵溶液浇透,保持白天的温度为 22-26℃,夜间温度为 15-20 ℃直至长成幼苗;

S4,定植:选取幼苗进行定植,定植的行距为 90-94cm,列距为 40-45cm,深度为 5-9cm;

S5,生长管理:按照亩施绿肥50公斤,亩施过磷酸钙30公斤作基肥,植株2-3片真叶时,开始追肥,每隔6-8天追肥1次,亩施尿素5公斤-6公斤,卷须出现时结合中耕除草培土培肥,定植三天后每隔三周喷洒一次生物农药,当长出小黄瓜且长度达到4-5cm套袋;

S6,采收:当黄瓜开花10-12天,黄瓜长至 16-20cm 时采收。

优选地,步骤S1中土地土壤酸碱度在6.0-7.5之间的偏粘性砂壤土。

优选地,步骤S2中选取饱满有光泽的黄瓜种子,在28-30℃的恒温箱或温暖处保湿催芽,20小时开始发芽。

优选地,步骤S3中选取幼芽长度为 4mm-7mm 的幼芽植入育苗盘中。

优选地,步骤S4中选取苗龄15-20天,具有2片真叶的幼苗进行定植。

优选地,步骤S5中当长出小黄瓜且长度达到5cm 时往小黄瓜上套上长 22cm、直径为 3.2cm 的透明保鲜袋。

相比于现有技术,本发明的有益效果:利用本发明种植的黄瓜口味甘甜,营养丰富,且该种植方法简单易行,操作简便、高效,有很好的农业经济推广的特点。

具体实施方式

结合以下实施例对本发明作进一步描述。

一种黄瓜的种植方法,包括以下步骤:

S1,基地选择:选择酸碱度在6.0-7.5之间,富含有机质、排灌良好、保水保肥的偏粘性砂壤土,忌与瓜类作物连作,整地采用深沟高畦,畦宽1.8米-2.0米,畦高30厘米,南北走向,双行植,株距30厘米;

S2,选种催芽:选取饱满有光泽的黄瓜种子,浸种催芽在黄瓜播种中普遍应用,用50-55℃温开水烫种消毒10分钟,不断搅拌以防烫伤,然后用约30℃温水浸4-6小时,搓洗干净,涝起沥干,在28-30℃的恒温箱或温暖处保湿催芽,20小时开始发芽;

S3,选芽育苗:选取幼芽长度为 4mm-7mm 的幼芽植入育苗盘中,覆盖 1.2-2.0cm 的土壤,然后用多菌灵溶液浇透,保持白天的温度为 22-26℃,夜间温度为 15-20 ℃直至长成幼苗;

S4,定植:选取苗龄15-20天,具有2片真叶的幼苗进行定植,定植的行距为 90-94cm,列距为 40-45cm,深度为 5-9cm;

S5,生长管理:按照亩施绿肥50公斤,亩施过磷酸钙30公斤作基肥,植株2-3片真叶时,开始追肥,每隔6-8天追肥1次,亩施尿素5公斤-6公斤,卷须出现时结合中耕除草培土培肥,定植三天后每隔三周喷洒一次生物农药,当长出小黄瓜且长度达到4-5cm 时往小黄瓜上套上长 22cm、直径为 3.2-3.6cm 的透明保鲜袋;

S6,采收:当黄瓜开花10-12天,黄瓜长至 16-20cm 时采收。

最后应当说明的是,以上实施例仅用以说明本发明的技术方案,而非对本发明保护范围的限制,尽管参照较佳实施例对本发明作了详细地说明,本领域的普通技术人员应当理解,可以对本发明的技术方案进行修改或者等同替换,而不脱离本发明技术方案的实质和范围。

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