[发明专利]一种测量真空罐体内沉积污染的方法有效
| 申请号： | 201611118161.6 | 申请日： | 2016-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN106768034B | 公开（公告）日： | 2020-06-12 |
| 发明（设计）人： | 杨俊泰;王蒙;李兴坤;成荣;张鹏;何非 | 申请（专利权）人： | 兰州空间技术物理研究所 |
| 主分类号： | G01D21/02 | 分类号： | G01D21/02 |
| 代理公司： | 甘肃省知识产权事务中心 62100 | 代理人： | 马英 |
| 地址： | 730000 甘*** | 国省代码： | 甘肃;62 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 测量 真空 体内 沉积 污染 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种测量真空罐体内沉积污染的方法，其特征在于包括下列步骤：
（1）将离子推力器安装在真空罐体内，连接好电路和气路管路，将用覆盖物遮蔽半边的盖片安装在真空罐体内的选定位置；
（2）离子推力器在固定稳态工作点状态下连续点火若干小时，使盖片上留有累积的沉积物；
（3）离子推力器停止点火开启真空罐体，将盖片取下，剥离覆盖物，此时盖片上一半为物质沉积，一半为盖片裸露表面；
（4）利用高精度厚度测试仪器，量取盖片两半的厚度差，根据推力器点火时间计算出单位时间的真空罐体的溅射速率和溅射物质的分布区域，利用材料成分分析设备进行成分检测,以确定溅射物质的来源；
步骤（1）中所述盖片的安装位置为：安装在推力器的后端、安装在束流区域后端的罐壁上和/或安装在真空抽气泵的泵组抽气表面或其附近区域。
2.根据权利要求1所述的一种测量真空罐体内沉积污染的方法，其特征在于：步骤（1）中所述盖片为玻璃盖片或者硅片。
3.根据权利要求2所述的一种测量真空罐体内沉积污染的方法，其特征在于：所述盖片的表面光洁度为微米量级。
4.根据权利要求1所述的一种测量真空罐体内沉积污染的方法，其特征在于：步骤（4）中所述高精度厚度测试仪器精度为纳米级精度。
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