[发明专利]一种光罩真空吸盘区域污染物的检测系统以及检测方法

权利要求书

1.一种光罩真空吸盘区域污染物的检测系统，其特征在于，所述检测系统包括：

光罩台，用于承载光罩；

真空吸盘，位于所述光罩台内，用于抓紧放置于所述真空吸盘区域上方的光罩；

真空吸盘控制模块，用于控制所述真空吸盘的抓紧或释放；

信号收集处理模块，用于采集所述真空吸盘控制模块的真空电压，并绘制检测回归曲线，所述检测回归曲线反映从刚开始抽真空到真空度达到预定值的过程中所述真空吸盘控制模块的真空电压随时间的变化；

数据分析模块，其接收经所述信号收集处理模块输出的所述检测回归曲线的斜率结果，并分析所述光罩与所述真空吸盘接触的位置是否存在污染物。

2.如权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述数据分析模块接收经所述信号收集处理模块输出的所述检测回归曲线的斜率结果，将所述检测回归曲线的斜率与所述数据分析模块中存储的标准光罩的参考回归曲线的斜率进行对比，从而分析所述光罩与所述真空吸盘接触的位置是否存在污染物。

3.如权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述信号收集处理模块包括信号收集处理电路板。

4.如权利要求3所述的检测系统，其特征在于，所述信号收集处理电路板安装在光刻机台空余的插槽中。

5.如权利要求1所述的检测系统，其特征在于，还包括抽送气装置，用于对所述光罩台的真空吸盘区域进行抽真空或者输送气体。

6.如权利要求5所述的检测系统，其特征在于，当所述光罩放置于所述真空吸盘区域的上方时，由所述真空吸盘控制模块控制抽送气装置对所述真空吸盘区域抽真空使所述光罩吸附在所述光罩台上，或者，向所述真空吸盘区域输送气体使所述光罩从所述光罩台上释放。

7.如权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述检测回归曲线的横坐标为从刚开始抽真空到真空度达到预定值所经历的时间，纵坐标为任意时间时所对应的所述真空吸盘控制模块的真空电压。

8.如权利要求2所述的检测系统，其特征在于，所述参考回归曲线是指在所述标准光罩与所述真空吸盘接触位置处没有污染物时，反映从刚开始抽真空到真空度达到预定值的过程中所述真空吸盘控制模块的真空电压的变化的回归曲线。

9.如权利要求2所述的检测系统，其特征在于，将所述检测回归曲线的斜率与所述数据分析模块中存储的所述参考回归曲线的斜率进行对比，若同一横坐标下，所述检测回归曲线的斜率和所述参考回归曲线的斜率之间存在偏差，则判断检测光罩与所述真空吸盘的接触位置存在污染物。

10.如权利要求9所述的检测系统，其特征在于，所述检测回归曲线的斜率小于所述参考回归曲线的斜率，则判断所述检测光罩与所述真空吸盘的接触位置存在污染物。

11.如权利要求1所述的检测系统，其特征在于，所述真空吸盘控制模块包括光罩台抓紧或释放功能板。

12.一种光罩真空吸盘区域污染物的检测方法，其特征在于，所述检测方法包括：

将检测光罩放置于光罩台上，并进行抽真空使所述光罩台内的真空吸盘区域的真空度达到预定值，以将所述检测光罩吸附于所述光罩台的真空吸盘区域的上方；

采集真空吸盘控制模块的真空电压，并绘制检测回归曲线，其中，所述检测回归曲线反映从刚开始抽真空到真空度达到预定值的过程中所述真空吸盘控制模块的真空电压的变化；

接收所述检测回归曲线的斜率结果，将所述检测回归曲线的斜率与标准光罩的参考回归曲线的斜率进行对比，从而判断所述检测光罩与所述真空吸盘接触的位置是否存在污染物。