[发明专利]用以允许或阻止流进入到管道系统或封闭环境中的设备

权利要求书

1.一种用以允许或阻止流进入到管道系统或封闭环境中的设备，其包括：

(a)壳体，其具有上部流动通路及下部流动通路；

(b)阀座，其中所述阀座介于所述上部流动通路与所述下部流动通路之间，其中至少一个开口形成于所述阀座上，且其中所述至少一个开口具有内径；

(c)至少一个旋转阀，其位于所述壳体内部，其中所述至少一个旋转阀中的每一者进一步包括主体及彼此对置地安装到所述主体的两个导引件，其中所述至少一个旋转阀具有预定重量，其中所述至少一个旋转阀的所述主体经定尺寸以介于所述阀座的所述至少一个开口的所述内径与所述上部流动通路的内径之间，且其中所述至少一个旋转阀可在所述上部流动通路内部及所述阀座上方移动；及

(d)至少两个导引轨，其位于所述上部流动通路内部以用于在打开位置与闭合位置之间导引所述至少一个旋转阀中的每一者，其中所述至少一个旋转阀的所述两个导引件中的每一者安置在所述两个导引轨中的每一者中，且其中所述两个导引件在所述两个导引轨中自由地上下移动。

2.根据权利要求1所述的设备，其中所述上部流动通路中存在上部流动通路压力，其中所述下部流动通路中存在下部流动通路压力，其中当所述下部流动通路压力大于所述至少一个旋转阀的所述预定重量及所述上部流动通路压力时，所述至少一个旋转阀处于所述打开位置，其中当所述至少一个旋转阀处于所述打开位置时，所述至少一个旋转阀的所述主体从形成于所述阀座上的所述至少一个开口移离，其中当旋转阀处于所述打开位置时，所述流可通过所述阀座的所述至少一个开口，其中当所述下部流动通路压力小于或等于所述至少一个旋转阀的所述预定重量及所述上部流动通路压力时，所述至少一个旋转阀处于所述闭合位置，其中当所述至少一个旋转阀处于闭合位置时，所述至少一个旋转阀的所述主体安置在形成于所述阀座上的所述至少一个开口上，且其中当所述至少一个旋转阀处于所述闭合位置时，所述流无法通过所述阀座的所述开口。

3.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括至少两个扰流器，其中所述至少两个扰流器中的每一者包括安装到所述至少一个旋转阀的所述主体的多个叶轮，其中所述多个叶轮围绕所述至少两个导引件中的每一者以圆形布置，其中所述至少两个扰流器中的每一者彼此对置，且其中当来自所述下部流动通路的所述流推动所述多个叶轮时，所述至少两个扰流器使所述至少一个旋转阀旋转。

4.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括至少两个扰流器，其中所述至少两个扰流器中的每一者包括径向安装到所述导引件中的每一者的多个叶轮，且其中当来自所述下部流动通路的所述流推动所述多个叶轮时，所述至少两个扰流器使所述至少一个旋转阀旋转。

5.根据权利要求1所述的设备，其进一步包括位于所述上部流动通路中的上部流动通路过滤器及位于所述下部流动通路中的下部流动通路过滤器，其中所述上部流动通路过滤器及所述下部流动通路过滤器具有预定滤网大小以防止多个外来物体进入所述壳体。

6.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备经配置以位于所述封闭环境内部，

其中所述封闭环境在所述封闭环境中具有周围压力，其中所述封闭环境进一步包括至少一个导管，其中所述至少一个导管中的每一者具有第一端及第二端，其中所述至少一个导管中的每一者的所述第一端连接到所述设备的所述下部流动通路且所述第二端从所述封闭环境中延伸出，其中所述上部流动通路压力采用所述封闭环境的所述周围压力，其中当所述下部流动通路压力大于所述至少一个旋转阀的所述预定重量及所述上部流动通路压力时，所述至少一个旋转阀处于打开位置，且其中当所述下部流动通路压力等于或小于所述至少一个旋转阀的所述预定重量及所述上部流动通路压力时，所述至少一个旋转阀处于闭合位置。