[发明专利]一种用于验证Overlay机台精度的标准片、制作方法及验证方法在审

专利信息
申请号: 201611085250.5 申请日: 2016-11-30
公开(公告)号: CN106783672A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 李碧峰 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司11212 代理人: 杨立,李蕾
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 验证 overlay 机台 精度 标准 制作方法 方法
【权利要求书】:

1.一种用于验证Overlay机台精度的标准片,其特征在于:包括设置在载体上的一系列同时包含里、外层的量测标识,里层所述量测标识的中心与外层量测标识的中心对应的按照X、Y坐标上预设的一系列标准差进行叠对排列。

2.根据权利要求1所述的一种用于验证Overlay机台精度的标准片,其特征在于:所述量测标识以晶圆为载体。

3.根据权利要求2所述的一种用于验证Overlay机台精度的标准片,其特征在于:所述量测标识通过光罩曝光显影到晶圆上。

4.一种用于验证Overlay机台精度的标准片的制作方法,其特征在于:对上述权利要求1至3任一项所述的一种用于验证Overlay机台精度的标准片进行制作,包括以下步骤,

S1,设计一系列同时包含里、外层的量测标识;

S2,将里层量测标识的中心与外层量测标识的中心对应的按照X、Y坐标上预设的一系列标准差进行叠对排列;

S3,将叠对排列好的量测标识转移到载体上,形成标准片。

5.根据权利要求4所述的一种用于验证Overlay机台精度的标准片的制作方法,其特征在于:所述S3具体为:

S31,将叠对排列好的量测标识放在光罩上;

S32,在晶圆上涂设光阻并在设有量测标识的光罩下显影,形成刻蚀图案;

S33,根据刻蚀图案对晶圆进行刻蚀,形成标准片。

6.一种验证Overlay机台精度的方法,其特征在于:利用上述权利要求1至3任一项所述的一种用于验证Overlay机台精度的标准片进行验证,包括以下步骤,

步骤一,Overlay机台对标准片上里、外层的量测标识的中心进行量测,得出Overlay机台的量测值;

步骤二,将Overlay机台的量测值与标准片上里、外层的量测标识的中心之间的标准差进行对比,验证Overlay机台的精度。

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