[发明专利]具有双工艺设备的自动基板处理系统有效

专利信息
申请号: 201611066765.0 申请日: 2016-11-28
公开(公告)号: CN108116888B 公开(公告)日: 2020-01-03
发明(设计)人: 陈毅均;沈基盟;杨瑞棋 申请(专利权)人: 鸿骐新技股份有限公司
主分类号: B65G47/91 分类号: B65G47/91
代理公司: 72003 隆天知识产权代理有限公司 代理人: 李昕巍;郑特强
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 运输线 定位治具 印刷装置 载台 置件装置 载具 多个基板 工艺设备 升降装置 吸附单元 板处理 自动基 吸附 升高 运输路径 移动 运送
【权利要求书】:

1.一种具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,包括:

一载具运输线,沿着一运输路径运送一载具,所述载具承载多个基板;

一第一运输线,位于所述载具运输线的下方;

一第二运输线,位于所述第一运输线的下方;

一置件装置,位于所述载具运输线的上方,用以整置所述多个基板的位置;

一印刷装置,位于所述载具运输线的上方且位于所述置件装置的一侧,所述印刷装置印刷锡膏于所述多个基板上;

一第一吸附单元,沿着所述第一运输线在所述置件装置与所述印刷装置之间移动,所述第一吸附单元包括一第一定位治具用以吸附所述多个基板及一用以承载所述第一定位治具的第一载台;

一第二吸附单元,沿着所述第二运输线在所述置件装置与所述印刷装置之间移动,所述第二吸附单元包括一第二定位治具用以吸附所述多个基板及一用以承载所述第二定位治具的第二载台;

一第一升降装置,位于所述置件装置的下方,沿着一垂直于所述运输路径的方向升高或下降以顶起所述第一定位治具离开所述第一载台,或顶起所述第二定位治具离开所述第二载台;以及

一第二升降装置,位于所述印刷装置的下方,沿着一垂直于所述运输路径的方向升高以顶起所述第二定位治具离开所述第二载台并接近上述印刷装置,或顶起所述第一定位治具离开所述第一载台,所述第二升降装置交替地顶起所述第一定位治具和所述第二定位治具。

2.如权利要求1所述的具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,所述置件装置位于所述运输路径的上游,所述印刷装置位于所述运输路径的下游。

3.如权利要求1所述的具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,还包括一对竖立的侧壁,所述第一运输线有一对第一轨道分别设置于该对所述侧壁。

4.如权利要求3所述的具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,所述载具运输线包括一对前运输轨道及一对后运输轨道位于该对所述侧壁的内侧,该对所述前运输轨道邻近所述置件装置,该对所述后运输轨道邻近所述印刷装置。

5.如权利要求1所述的具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,所述第一定位治具及所述第二定位治具为真空吸盘,所述第一定位治具具有多个第一吸取头、所述第二定位治具具有多个第二吸取头。

6.如权利要求1所述的具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,所述第一升降装置具有一对支撑臂,该对所述支撑臂之间的距离大于所述第一载台的宽度,并且大于所述第二载台的宽度。

7.如权利要求6所述的具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,所述第一定位治具的宽度大于该对所述支撑臂之间的距离,所述第二定位治具的宽度大于该对所述支撑臂之间的距离。

8.如权利要求6所述的具有双工艺设备的自动基板处理系统,其特征在于,该对所述支撑臂的高度大于或等于从所述载具运输线至所述第二运输线的高度。

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