[发明专利]一种基于主动聚焦的实时聚焦方法及装置有效
申请号: | 201611066229.0 | 申请日: | 2016-11-28 |
公开(公告)号: | CN106707695B | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 蔡志国;罗宜清 | 申请(专利权)人: | 深圳凯世光研股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 深圳市合道英联专利事务所(普通合伙) 44309 | 代理人: | 廉红果 |
地址: | 518000 广东省深圳市宝*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 聚焦 曝光 条带 测量 测距仪测量 聚焦方式 曝光过程 测距仪 基本面 组数据 精细 镜头 替代 基层 | ||
1.一种基于主动聚焦的实时聚焦方法,其特征在于,具体按照以下步骤实施:
步骤1,扫描步进曝光机按照条带进行曝光,条带是一个长方形曝光区域,一次扫描曝光一个条带,一个条带接着一个条带的顺序曝光,所有条带构成整个曝光区域;
步骤2,曝光首条带前测距仪通过主动聚焦的方式扫描该条带,在曝光中由于基板出现的凹凸不平的情况,因此记录该条带的坐标为(X0,Y0)……(Xn、Yn),然后得到不同坐标位置所对应的Z轴高度值F;
步骤3,曝光首条带时通过三轴定位平台Stage当前的坐标位置(X0,Y0),以及步骤2中测量的该坐标位置所对应的Z轴高度值F,得到三轴定位平台Stage在曝光位置的焦面值F0,移动三轴定位平台Stage的Z轴到F0位置,即实现此位置的聚焦;
所述步骤2中的主动聚焦按照以下步骤实施:
步骤2.1,设置三轴定位平台Stage中的X轴扫描方式为up-to-down,根据基板的厚度,计算Z轴至曝光镜头的理论高度值f;
步骤2.2,移动平台至曝光首条带位置,启动测距仪的测量功能,测量即将在扫描过程中的Z轴变化值Fn;
步骤2.3,X方向为步进,Y方向扫描,根据步骤2.1中的理论高度值f确定Z轴移动总步长Step,记录存储在Fn中;
步骤2.4,在曝光时根据步骤2.3中的Fn,由镜头结构的Z轴电机进行一次实时聚焦;
步骤2.5,继续曝光后面的条带,再通过测距仪测量不同Step已存储的数据Fn,再次进行运用;
步骤2.6,重复步骤2.2-2.5,即实现整个曝光过程中的主动聚焦。
2.根据权利要求1所述的一种基于主动聚焦的实时聚焦方法,其特征在于,所述步骤2.4曝光过程中基平面的Z轴相对保持不变,在对镜头结构进行调整,使镜头与基平面保持一个D0的距离,所述D0为理论Z轴至曝光镜头的理论高度值f之间的距离。
3.根据权利要求2所述的一种基于主动聚焦的实时聚焦方法,其特征在于,所述步骤2在曝光准备阶段并行执行。
4.根据权利要求3所述的一种基于主动聚焦的实时聚焦方法,其特征在于,所述步骤3中在曝光首条带时测距仪继续扫描下一条带,并得到该条带不同坐标位置所对应的Z轴高度值F,以便反复循环曝光使用。
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