[发明专利]一种带有溢流腔的尾气处理装置

说明书

本发明提供一种带有溢流腔的尾气处理装置，包括：水槽；所述水槽上部设有进气口及出气口；设于所述水槽一侧的溢流腔，与所述溢流腔之间通过隔板隔离，当所述水槽内的液体水位到达隔板顶部时，液体表面的絮状硅化物可越过隔板流入所述溢流腔内；设于所述溢流腔上部的至少一个喷头，用于喷射水流以打碎进入溢流腔的絮状硅化物；设于所述溢流腔下部的排放口，用于排出硅化物；与所述排放口连接的电磁阀，用于开启或关闭所述排放口。本发明通过在水槽一侧增加一个溢流腔，让絮状硅化物可以直接从水面上流入溢流腔内，并有效排出尾气处理器内部，可以大大延长PM周期，提高外延的经济效益，并具有结构简单，效果显著、使用成本低、维护便捷等优点。

技术领域

本发明属于半导体制造领域，涉及一种带有溢流腔的尾气处理装置。

背景技术

常压外延工艺中需要大量的HCl，三氯氢硅(TCS)，B₂H₆，PH₃，H₂等特殊气体。外延用尾气处理器是专门设计处理外延尾气废气的装置。通过外延炉的排气管和尾气处理器的进气口连接，外延废气进入尾气处理内发生反应，然后排出无污染的气体。

一般的尾气处理装置包括燃烧式、水洗式等。水洗式通过尾气处理器的排气口和一个特制的文氏管连接，依靠文氏管提供的负压，使得外延炉内的工艺气体被抽入尾气处理器内。在尾气处理器内，外延废气中的HCl，TCS，B₂H₆，PH₃经过不断的水洗，充分和水发生反应而被去除。剩余的H₂、N₂被空气稀释后排到空气中。尾气处理器需要预防性维护(Preventive Maintenance，PM)的最大原因就是其中TCS(三氯氢硅)和水的反应生成的Si₂H₂O₂为粉末状固体，随着时间的延长，这些粉末会聚集，生成白色絮状物，从而影响负压值，这时就需要对尾气处理器(scrubber)进行预防性维护。

现有技术中有两种方式处理絮状物：如图1所示为间接溢流，能带出极少量的絮状物，因为絮状物基本是漂浮在水面上，溢流口不和水面直接相通，无法达到大量去除絮状物。还有一种就是加大水箱体积，这样可以多积聚絮状物，延长PM周期；缺点是占地面积大，用水量大，成本高，维护繁琐。

因此，如何提供一种新的尾气处理装置，以高效去除絮状硅化物，延长尾气处理装置的预防性维护周期，并降低使用成本，成为本领域技术人员亟待解决的一个重要技术问题。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点，本发明的目的在于提供一种带有溢流腔的尾气处理装置，用于解决现有技术中絮状硅化物去除效率不高，且成本较高、维护繁琐的问题。

为实现上述目的及其他相关目的，本发明提供一种带有溢流腔的尾气处理装置，包括：

水槽；所述水槽上部设有进气口及出气口；

设于所述水槽一侧的溢流腔；所述水槽与所述溢流腔之间通过隔板隔离，当所述水槽内的液体水位到达所述隔板顶部时，液体表面的絮状硅化物可越过所述隔板流入所述溢流腔内；

设于所述溢流腔上部的至少一个喷头，用于喷射水流以打碎进入所述溢流腔的絮状硅化物；

设于所述溢流腔下部的排放口，用于排出硅化物；

与所述排放口连接的电磁阀，用于开启或关闭所述排放口。

可选地，所述溢流腔还连接有第一液位传感器及第二液位传感器，其中，所述第一液位传感器高于所述第二液位传感器，当所述溢流腔内的水位到达第一液位并触发所述第一液位传感器时，所述电磁阀启动，使所述排放口开启；当所述溢流腔内的水位下降到第二液位并触发所述第二传感器时，所述电磁阀关闭，使所述排放口关闭。