[发明专利]保护膜及应用该保护膜的偏光板有效

专利信息
申请号: 201611044646.5 申请日: 2016-11-24
公开(公告)号: CN106896425B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 篮钲欣;陈兮婷 申请(专利权)人: 住华科技股份有限公司
主分类号: G02B1/14 分类号: G02B1/14;G02B5/30
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;鲍俊萍
地址: 中国台湾台南*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 保护膜 应用 偏光
【权利要求书】:

1.一种保护膜,其特征在于,该保护膜包括:

一保护层,具有一介于0度至20度之间的轴角度,其中该保护层更具有一X轴及一迟相轴,且该轴角度是该迟相轴与该X轴向所夹成的角度;

其中,该X轴是保护层的宽度方向或保护层的长度延伸方向,该保护层的任意两点的该轴角度之差小于20度。

2.一种保护膜,其特征在于,该保护膜包括:

一保护层,具有一轴角度及一X轴;

其中,往该X轴的方向看去,该保护层的宽度的中央区域的该轴角度小于靠近该保护层的两端点的该轴角度;

其中,该X轴是保护层的宽度方向或保护层的长度延伸方向,该轴角度指的是在保护层的迟相轴与保护层的X轴向所夹成的角度,该保护层的任意两点的该轴角度之差小于20度。

3.如权利要求1或2所述的保护膜,其特征在于,该保护层的材料选自聚酯树脂、烯烃树脂、乙酸纤维素树脂、丙烯酸树脂、聚乙烯、聚丙烯、环烯烃树脂或其组合,其中该聚酯树脂是聚对苯二甲酸乙二酯、聚对苯二甲酸丁二酯、聚碳酸酯树脂或聚萘二甲酸乙二酯,该丙烯酸树脂是聚甲基丙烯酸甲酯。

4.如权利要求1或2所述的保护膜,其特征在于,更包含:

一黏合层,形成于该保护层上;

其中,该黏合层由甲基丙烯酸共聚物制成;及/或该黏合层的表面阻抗小于1012Ω/□。

5.如权利要求1或2所述的保护膜,其特征在于,该保护层具有一表面处理层;及/或该保护层经电晕放电技术改质;及/或该保护层经易接着化学处理;及/或该保护层的表面阻抗小于1011Ω/□;及/或该保护膜的雾度介于0.5%至10%。

6.如权利要求4所述的保护膜,其特征在于,更包括:

一离型层,覆盖该黏合层。

7.如权利要求1、2或6所述的保护膜,其特征在于,该保护膜的厚度介于12微米至250微米之间。

8.一种偏光板,其特征在于,该偏光板包括:

一偏光膜;以及

权利要求1、2或6所述的保护膜,配置于该偏光膜上。

9.如权利要求8所述的偏光板,其特征在于,该偏光膜包括:

一第一覆盖层;

一第二覆盖层;以及

一偏光层,形成于该第一覆盖层与该第二覆盖层之间。

10.如权利要求8所述的偏光板,其特征在于,该保护膜对该偏光膜的剥离力介于0.02N/25mm至0.3N/25mm之间;及/或该保护膜对该偏光膜的剥离带电量小于3kV。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住华科技股份有限公司,未经住华科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611044646.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top