[发明专利]一种研究膜‑基体复合结构力学性质的方法及系统

权利要求书

1.一种研究膜-基体复合结构力学性质的方法，其特征在于，包括以下步骤：

阳极化处理，在基材表面原位、实时生长氧化膜；

压痕处理，中止极化并对所述氧化膜进行压痕处理；

其中，所述阳极化处理步骤和所述压痕处理步骤交替进行N次，N≥2，测试不同厚度比条件下的膜-基体复合结构的力学参数。

2.根据权利要求1所述的一种研究膜-基体复合结构力学性质的方法，其特征在于，第一次所述阳极化处理步骤前，还包括对基材镀膜面进行表面预处理的步骤；所述预处理步骤包括清洗和/或抛光。

3.根据权利要求1或2所述的一种研究膜-基体复合结构力学性质的方法，其特征在于，不同次所述压痕处理步骤中，压痕位置不同、压痕深度相同。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种研究膜-基体复合结构力学性质的方法，其特征在于，每个所述压痕位置间距为10μm～100μm。

5.一种测试膜-基体复合结构力学性质的系统，其特征在于，包括电化学组件，以及设置在所述电化学组件垂直上方的纳米压痕组件；所述纳米压痕组件用于对所述电化学组件中实时生长的薄膜进行压痕测试。

6.根据权利要求5所述的测试膜-基体复合结构力学性质的系统，其特征在于，所述电化学组件包括电解液槽、设置在槽体底部的负电极、以及设置在槽体中的正电极，所述负电极连接至电源的负极、所述正电极连接至所述电源的正极。

7.根据权利要求6所述的测试膜-基体复合结构力学性质的系统，其特征在于，待镀膜基材直接叠置在所述正电极上，且待镀膜表面靠近所述槽体开口表面，并与之平行；所述待镀膜表面在电解液中的深度为3mm～8mm。

8.根据权利要求5-7任一项所述的测试膜-基体复合结构力学性质的系统，其特征在于，所述纳米压痕组件包括压头以及与之连接的压头传感器。

9.根据权利要求8所述的测试膜-基体复合结构力学性质的系统，其特征在于，所述纳米压痕组件还包括用于控制压痕深度的压头位移控制模块。

10.根据权利要求8或9所述的测试膜-基体复合结构力学性质的系统，其特征在于，所述压头为Berkvich压头。