[发明专利]一种涂布微纳颗粒的方法及其设备

说明书

本发明提供了一种涂布微纳颗粒的方法及其设备，本发明提供的涂布微纳颗粒的设备包括容雾舱以及设置在容雾舱上的雾化装置。其中，本发明通过将微纳颗粒通过雾化装置雾化分散微纳颗粒的方式涂布微纳颗粒，不仅保证分散涂布结果的均匀性、单颗粒分散性和一致性，而且还能实现大面积基片的分散涂布。

技术领域

本发明涉及微纳颗粒的检测加工领域，尤其涉及一种涂布微纳颗粒的方法及其设备。

背景技术

为了测量单个微纳颗粒的性质或制造特别的微纳结构。常需要将微纳颗粒涂布在玻璃片硅片等基片上，并使大部分微纳颗粒保持一个一个分散开的状态，避免多个颗粒团聚的状态。现在，常使用旋涂机旋涂，涂布器刮涂等方法使分散有微纳颗粒的溶液在基片上形成一层液膜，待溶液挥发，在基片上留下分散的微纳颗粒。但是，目前公开的这些方法存在一些问题，如：1)由于咖啡渍圈环效应，溶液挥发过程中微纳颗粒追随溶液移动聚集，使得在基片上纳米颗粒的分布疏密不均，部分区域发生团聚，部分区域又过于稀疏。2)若基片与溶液不能相互浸润，如在亲水性基片上涂布油性溶液时，溶液不能在基片上形成液膜，就无法实现分散涂布微纳颗粒的目的；可见，目前公开的涂布方式均匀性和单颗粒分散性较差且难以保证多次涂布的一致性。

发明内容

有鉴于此，本发明所要解决的技术问题在于提供一种涂布微纳颗粒的方法及其设备，采用本发明的设备涂布微纳颗粒，能够保证微纳颗粒分散涂布结果的均匀性、单颗粒分散性和一致性。

本发明提供了一种涂布微纳颗粒的设备，包括：

容雾舱；

设置在容雾舱上的雾化装置。

优选的，所述容雾舱包括底座和设置在底座上的容雾舱室罩。

优选的，所述容雾舱室罩通过卡笋固定在所述底座的卡槽上。

优选的，所述雾化装置的出雾口设置在所述容雾舱室罩上。

优选的，所述底座上设置有基片安放槽、进气孔和排气孔。

优选的，所述设备上设置有与排气孔相连通的排气管。

优选的，所述排气管上设置有排风扇。

优选的，所述设备上设置有与进气孔相连通的进气管。

优选的，所述进气管上设置有HEPA滤网。

本发明还提供了一种涂布微纳颗粒的方法，包括：采用本发明所述的设备将微纳颗粒溶液涂布在基片上，得到涂布微纳颗粒的基片。

与现有技术相比，本发明提供了一种涂布微纳颗粒的方法及其设备，本发明提供的设备包括容雾舱以及设置在容雾舱上的雾化装置。其中，本发明通过将微纳颗粒通过雾化装置雾化分散微纳颗粒的方式涂布微纳颗粒，不仅保证分散涂布结果的均匀性、单颗粒分散性和一致性，而且还能实现大面积基片的分散涂布。

附图说明

图1为本发明所述的涂布微纳颗粒的设备的分解图；

图2为本发明所述的涂布微纳颗粒的设备的组合图；

图3为本发明所述的涂布微纳颗粒的设备的剖面图；

图4为对实施例1制备的分散有二氧化硅小球的基片中一区域进行观察得到的显微放大图；

图5为对实施例1制备的分散有二氧化硅小球的基片中另一区域进行观察得到的显微放大图；

图6为对实施例2制备的分散有二氧化硅小球的基片中一区域进行观察得到的显微放大图；

图7为对实施例2制备的分散有二氧化硅小球的基片中另一区域进行观察得到的显微放大图；