[发明专利]一种显示基板及制作方法、液晶显示面板和液晶显示装置有效
申请号: | 201611029784.6 | 申请日: | 2016-11-15 |
公开(公告)号: | CN106646968B | 公开(公告)日: | 2020-05-08 |
发明(设计)人: | 简守甫;曹兆铿;傅炯樑 | 申请(专利权)人: | 上海中航光电子有限公司;天马微电子股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1333 | 分类号: | G02F1/1333 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆;胡彬 |
地址: | 201108 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 制作方法 液晶显示 面板 液晶 显示装置 | ||
1.一种显示基板,包括显示区和围绕所述显示区的非显示区,其特征在于,包括:
衬底;
色阻层,所述色阻层设置在所述显示区;
其中,位于所述色阻层上方的平坦化层,所述平坦化层延伸至所述非显示区,其中,位于所述非显示区的所述平坦化层包括第一部分和第二部分,所述平坦化层的第一部分距离所述显示区的距离大于所述平坦化层的第二部分距离所述显示区的距离,所述平坦化层的第一部分的厚度小于所述平坦化层的第二部分的厚度,位于所述色阻层上方的所述平坦化层的厚度小于所述第二部分的厚度;以及
位于所述平坦化层上方的配向膜,所述配向膜上对应所述第一部分与所述第二部分的交界处形成有第一台阶以使该第一台阶堆积所述配向膜的摩擦碎屑,其中,所述第一台阶为直角台阶。
2.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第二部分的厚度至少比位于所述色阻层上方的所述平坦化层的厚度大0.5μm。
3.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述第二部分的厚度比位于所述色阻层上方的所述平坦化层的厚度大1.5μm~2μm。
4.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,在位于所述色阻层上方的所述平坦化层与所述第二部分的交界处,所述配向膜形成有第二台阶,或为平面结构。
5.根据权利要求4所述的显示基板,所述第二台阶为弧形台阶、直角台阶或斜线台阶。
6.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,还包括:
薄膜晶体管阵列;
像素电极和公共电极;
所述色阻层形成在所述像素电极和公共电极上方。
7.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,还包括:
薄膜晶体管阵列;
像素电极和公共电极;
所述像素电极和公共电极形成在所述色阻层上方。
8.根据权利要求1所述的显示基板,其特征在于,所述非显示区还包括外围驱动线路,位于所述非显示区的所述平坦化层覆盖所述外围驱动线路。
9.一种液晶显示面板,其特征在于,包括第一基板和与所述第一基板相对设置的第二基板,所述第一基板和所述第二基板之间设置有液晶层,所述第一基板或所述第二基板采用权利要求1-8任一所述的显示基板。
10.根据权利要求9所述的液晶显示面板,其特征在于,还包括设置在所述液晶层周边的封框胶,所述封框胶与平坦化层的第一部分和第二部分的交界处对应设置。
11.一种液晶显示装置,其特征在于,包括权利要求9或10所述的液晶显示面板。
12.一种针对权利要求1-8任一所述的显示基板的制备方法,其包括以下步骤:
提供衬底;
在所述衬底上方形成色阻层,所述色阻层设置在显示区;
形成平坦化层,所述平坦化层位于所述色阻层上方,且延伸至非显示区,其中,位于所述非显示区的所述平坦化层包括第一部分和第二部分,所述平坦化层的第一部分距离所述显示区的距离大于所述平坦化层的第二部分距离所述显示区的距离,所述平坦化层的第一部分的厚度小于位于所述平坦化层的第二部分的厚度,所述形成平坦化层还包括使用半色调掩膜版以使位于所述色阻层上方的所述平坦化层的厚度小于所述第二部分的厚度;
在所述平坦化层上方形成配向膜,所述配向膜上对应所述第一部分与所述第二部分的交界处形成有第一台阶以使该第一台阶堆积所述配向膜的摩擦碎屑,其中,所述第一台阶为直角台阶。
13.根据权利要求12所述的显示基板的制备方法,其特征在于,所述形成平坦化层具体为:
使用半色调掩膜版在所述色阻层上方和非显示区形成平坦化层,以使所述平坦化层的第一部分的厚度小于位于所述平坦化层的第二部分的厚度。
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