[发明专利]光学扫描设备以及包括该光学扫描设备的图像形成设备有效
| 申请号: | 201611024639.9 | 申请日: | 2016-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN106896669B | 公开(公告)日: | 2019-11-15 |
| 发明(设计)人: | 角田乃亚 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
| 主分类号: | G03G15/04 | 分类号: | G03G15/04;G02B26/10;G02B27/42 |
| 代理公司: | 11293 北京怡丰知识产权代理有限公司 | 代理人: | 迟军<国际申请>=<国际公布>=<进入国 |
| 地址: | 日本东京都大*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 扫描 设备 以及 包括 图像 形成 | ||
本公开涉及光学扫描设备以及包括该光学扫描设备的图像形成设备。一种光学扫描设备包括:光源;偏转器,配置为偏转来自该光源的光束以便在主扫描方向上扫描待扫描表面;入射光学系统,配置为将来自该光源的光束引导到偏转器的偏转表面;以及成像光学系统,配置为将由偏转器偏转的光束引导到待扫描表面。所述光学扫描设备满足下面的条件:0.5<|βsi|<2.2,3.0<|βso|<10.0,以及0.2<Li/Lo<0.4。
技术领域
本发明涉及光学扫描设备,并且涉及可有效地与图像形成设备(诸如激光束打印机(LBP)、数字复印机以及多功能打印机(具有多个功能的打印机))一起使用的光学扫描设备。
背景技术
作为在图像形成设备中使用的光学扫描设备,已知存在一种光学扫描设备,其包括将从光源发射的光束引导到偏转器的入射光学系统以及将由偏转器偏转的光束引导到待扫描表面的成像光学系统。日本专利申请公开No.2015-31824讨论了一种光学扫描设备,其被配置为使得成像光学系统被布置得更接近偏转器,这有助于减少成像光学系统在主扫描方向上的长度和整个设备在光轴方向上的长度,因此实现尺寸和成本的减少。
现在,图像形成设备要求用于放置其它部件(诸如调色剂容器)的区域,由此难以减少成像光学系统和待扫描表面之间的距离。因此,像日本专利申请公开No.2015-31824中讨论的配置那样减少偏转器和成像光学系统之间的距离导致必然增大成像光学系统在副扫描截面中的横向倍率(副扫描倍率)。因此,这个配置最终增大了光学性能的敏感度和在其形成时成像光学系统中的变化。即,该配置增大了根据在制造时成像光学系统中的变化而在光学性能中的改变量以及在诸如光源之类的每个部件的组装误差。
在该情况下,解决这个问题的一种可能方法是减少入射光学系统的副扫描倍率,由此减少整个光学系统的副扫描倍率,因此防止或减少光学性能的敏感度的增大。然而,简单地增大光源和入射光学系统之间的距离来实现此导致必然在副扫描方向上增大入射光学系统,使得难以减少入射光学系统的尺寸。
发明内容
本发明涉及在减少光学扫描设备中的光学性能的敏感度的同时实现尺寸的减少。
根据本发明一个方面,一种光学扫描设备包括:光源;偏转器,配置为偏转来自该光源的光束以便在主扫描方向上光学地扫描待扫描表面;入射光学系统,配置为将来自该光源的光束引导到偏转器的偏转表面;以及成像光学系统,配置为将由偏转器偏转的光束引导到待扫描表面。其中,所述光束的扫描速度在待扫描表面上的轴上像高处和轴外像高处之间是不同的。所述光学扫描设备满足下面的条件式:0.5<|βsi|<2.2,5.62≦|βso|<10.0,以及0.2<Li/Lo<0.4,其中βsi表示入射光学系统在副扫描截面中的倍率,βso表示成像光学系统在副扫描截面中的倍率,Li表示光源与偏转表面之间的在光轴上的距离,并且Lo表示偏转表面与待扫描表面之间的在光轴上的距离。
从以下参考附图的示例性实施例的描述中本发明更多的特征将变得清晰。
附图说明
图1A和图1B是示出根据本发明的第一示例性实施例的光学扫描设备的主要部分的截面图。
图2A和图2B是示出根据比较示例的光学扫描设备的主要部分的截面图。
图3A-3D示出本发明的示例性实施例的效果。
图4A和图4B是示出根据本发明的第二示例性实施例的光学扫描设备的主要部分的截面图。
图5是示出根据本发明示例性实施例的图像形成设备的主要部分的截面图。
具体实施方式
在下面的描述中,将参考附图描述本发明的典型的示例性实施例。为了方便起见可以以与实际尺寸不同的尺度来描绘每个附图。此外,相同的部件在每个附图中将由相同的附图标记标识,并且将省略重复的描述。
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