[发明专利]决明子的高产培育方法有效
| 申请号: | 201611024300.9 | 申请日: | 2016-11-18 |
| 公开(公告)号: | CN106576738B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
| 发明(设计)人: | 韦慧芳 | 申请(专利权)人: | 韦慧芳 |
| 主分类号: | A01G22/40 | 分类号: | A01G22/40;A01G9/029;A01G9/12;A01G13/02;A01G7/04;A01C1/00 |
| 代理公司: | 北京远大卓悦知识产权代理事务所(普通合伙) 11369 | 代理人: | 靳浩 |
| 地址: | 530699 广西壮族自治*** | 国省代码: | 广西;45 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 决明子 高产 培育 方法 | ||
1.一种决明子的高产培育方法,其特征在于,包括以下步骤:
步骤一、在平地中亩施农家肥1900~2200kg和过磷酸钙60~80kg作为基肥,作宽1.2~1.5m,高25~28cm的畦;
步骤二、在每畦上固定中空长方体结构的培育盒,所述培育盒的上底面设有可开闭的上盖且所述上盖关闭时与畦面齐平,所述培育盒的高度为5~8cm,所述培育盒的下底面上设有多个圆形孔洞,所述圆形孔洞的四周围设有圆形插槽,所述圆形插槽上可拆卸的固定有竖直设置的圆柱形的防护台;
所述防护台为两端敞开的中空结构且其高度比所述培育盒的高度低1~1.5cm,所述防护台的内侧壁设有多条从上底圆形连通到下底圆形的沟形凹槽,多个所述防护台排列在所述培育盒上,每行所述防护台平行于畦的宽度方向,相邻两行所述防护台的行距均为30~40cm,且相邻两列所述防护台的列距为25~35cm;
所述上盖上设有多个长方形的通槽,所述通槽的长度方向平行于畦的宽度方向,所述通槽中可拆卸的设有条形框,所述条形框上对应每行所述防护台设有与每个所述防护台的底面大小相同的圆形通孔,所述条形框的上表面还覆盖有薄膜;
在4月中旬,将决明子种子浸种处理后,掀开所述上盖,在所述培育盒的每个所述防护台的底部播种1~2颗决明子种子,播种后在决明子种子上覆土2~5cm,所述培育盒中位于所述防护台外的区域覆盖的土层的厚度比决明子种子上覆盖的土层的厚度大1~3cm,且所述培育盒中位于所述防护台外的区域覆盖的土层的高度不超过所述培育盒的上底面的高度,然后浇水,每次浇水时水围绕所述防护台的上底面的内边缘浇入,然后盖上所述上盖,将所述条形框上的薄膜覆盖;
步骤三、播种5~10天后拆除所述薄膜,当决明苗高6~8cm时除草,拆除所述条形框,当决明苗高20~30cm时打开所述上盖后拆除所述防护台,然后松土,盖上所述上盖,当决明苗高36~40cm时卸下所述上盖,施肥,施肥时将有机肥按照每亩15~30kg混施于每一行间,在决明苗高45~60cm时,将决明苗间的杂草切割留根,将切割的杂草铺于决明苗间,成熟后采收决明子。
2.如权利要求1所述的决明子的高产培育方法,其特征在于,所述步骤二的所述上盖上还设有多个分隔装置,所述分隔装置设于相邻两行所述通槽之间,所述分隔装置的长度与所述通槽的长度相同;
所述分隔装置包括:
插槽,其固定在所述上盖的上表面;
反光板,其可拆卸的垂直卡设于所述插槽中,所述反光板为可伸缩板,其高度不超过40cm。
3.如权利要求1所述的决明子的高产培育方法,其特征在于,所述步骤二中决明子种子浸种处理具体过程为:将壳聚糖按照浓度为0.1g/L溶解于质量分数为1%的醋酸溶液中得到壳聚糖溶液,然后将决明子种子在所述壳聚糖溶液浸泡0.5~1h后晾干,用频率为30~40Hz的低频交流电流对决明子种子通电5~10min后,用50℃温水浸泡决明子种子8h后晾干。
4.如权利要求1所述的决明子的高产培育方法,其特征在于,所述步骤三中拆除所述防护台,松土后,用质量分数为0.1%的尿素和质量分数为0.3%的磷钾肥的混合溶液喷施决明苗,然后盖上所述上盖。
5.如权利要求1所述的决明子的高产培育方法,其特征在于,所述培育盒中位于所述防护台外的区域覆盖的土层的厚度比决明子种子上覆盖的土层的厚度大1~2cm。
6.如权利要求1所述的决明子的高产培育方法,其特征在于,所述步骤三中所述有机肥中包括以下重量份的原料:畜禽粪便6~10份、过磷酸钙肥5~6份、腐植土5~6份、硫酸铵肥1~3份、硫酸钾1~2份、秸秆渣1~2份以及草炭土1~2份。
7.如权利要求1所述的决明子的高产培育方法,其特征在于,所述步骤三中当决明苗高36~40cm时,施肥后每晚用强度为600~800Lux的紫外光照射决明苗0.5h,当决明苗高45~60cm时,将切割的杂草铺于决明苗间后,每晚用强度为800~1000Lux的紫外光照射决明苗0.5~1h。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于韦慧芳,未经韦慧芳许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611024300.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





