[发明专利]一种石墨舟上下料装置及其上下料方法有效
申请号: | 201611022032.7 | 申请日: | 2016-11-21 |
公开(公告)号: | CN106756893B | 公开(公告)日: | 2019-05-14 |
发明(设计)人: | 符慧能 | 申请(专利权)人: | 湖南红太阳光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50 |
代理公司: | 湖南兆弘专利事务所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 周长清;徐好 |
地址: | 410205 湖南省*** | 国省代码: | 湖南;43 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 承托 石墨舟 铰接部 机械手 伸缩杆 托盘 铰接 上下料装置 上下料 盘绕 抓取 垂直向上运动 垂直向下运动 空间不足 水平运动 托盘运动 向上转动 向下转动 支架连接 支架上部 支架下部 上端 伸长 下端 支架 收缩 侧面 | ||
一种石墨舟上下料装置及其上下料方法,装置包括机械手、托盘、伸缩杆及支架,机械手与支架连接,托盘上沿着远离石墨舟的方向依次设有承托区、第一铰接部和第二铰接部,第一铰接部与支架下部铰接,第二铰接部与伸缩杆下端铰接,伸缩杆上端与支架上部铰接。方法包括步骤S1、机械手带动托盘运动至承托区位于石墨舟的承托间隙正上方;S2、伸缩杆收缩,托盘绕第一铰接部向下转动,承托区运动至石墨舟侧面;S3、机械手带动托盘垂直向下运动至承托区位于承托间隙侧下方;S4、伸缩杆伸长,托盘绕第一铰接部向上转动,承托区进入至承托间隙内;S5、机械手带动托盘垂直向上运动将石墨舟拾起离开取舟位置。本发明能在水平运动空间不足时顺利抓取石墨舟。
技术领域
本发明涉及太阳能硅电池片生产技术,尤其涉及一种石墨舟上下料装置及其上下料方法。
背景技术
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition,等离子体增强化学气相淀积设备)是太阳能硅电池片生产线上最重要的工艺设备之一,通过该设备可在硅电池片上镀一层抗反射膜,从而达到提高电池片效率的目的。石墨舟是工艺过程中硅电池片的承载工具,硅电池片通过自动插\取片机(自动插\取片机是实现硅电池片生产自动化的又一重要设备,用于硅片插放和取出石墨舟,实现硅片在花篮和石墨舟之间互换)装入石墨舟,再通过PECVD的自动上下料系统将石墨舟转移至推舟系统,推舟系统最终将石墨舟传输至反应炉管内。工艺完成后,再执行相反的传输过程,将完成工艺过程后的硅电池片取出。
如附图1所示,传统的石墨舟自动上下料系统的主要工作过程为:机械手(图中未标示)带动托盘1从水平方向进入石墨舟2两端的承托间隙21中,通过机械手的向上动作将石墨舟2拾起,石墨舟2脱离取舟位置后,机械手运动至放舟目标位置,然后机械手向下运动将石墨舟2落下,最后机械手带动托盘1水平反向运动,退出承托间隙21。
现有的硅电池片生产线上,自动插\取片机和PECVD之间的石墨舟2传送,需要生产人员操作载舟小车来实现。随着技术的不断进步,为了实现硅电池片生产线的自动化、提高生产效率,要求实现PECVD设备和自动插\取片机之间石墨舟2的自动传输,为此需要在PECVD底板上安装传送石墨舟2的导轨,利用自动上下料系统将石墨舟2从PECVD的缓存架抓取到导轨上,再通过导轨将石墨舟2传送到自动插\取片机。传统的石墨舟自动上下料系统其托盘1只能从水平方向进入石墨舟2的承托间隙21中,取放舟的位置需要给托盘1预留充足的水平运动空间,由于安装的导轨和PECVD下管推舟基本在同一高度,导致传统的自动上下料系统其托盘1在导轨上和下管取放舟的水平空间不足,运动过程中会发生干涉,无法顺利进入石墨舟2两端的承托间隙21中。
发明内容
本发明要解决的技术问题是克服现有技术的不足,提供一种结构简单、使用方便、能够在水平空间不足的情况下顺利抓取的石墨舟上下料装置。
进一步地,本发明还提供该石墨舟上下料装置的上下料方法。
为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:
一种石墨舟上下料装置,包括机械手、托盘及支架,所述机械手与所述支架连接,石墨舟上下料装置还包括伸缩杆,所述托盘上沿着远离石墨舟的方向依次设有承托区、第一铰接部和第二铰接部,所述第一铰接部与所述支架下部铰接,所述第二铰接部与所述伸缩杆下端铰接,所述伸缩杆上端与所述支架上部铰接。
作为上述技术方案的进一步改进:
所述承托区内设有用来检测有无石墨舟的检测压块。
所述承托区内设有与石墨舟拾取部位形状匹配的定位槽。
所述伸缩杆为电动推杆、气缸或液压缸。
所述托盘上设有一对用来检测托盘转动极限位置的挡片。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于湖南红太阳光电科技有限公司,未经湖南红太阳光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611022032.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种变电场原子层沉积系统的控制方法
- 下一篇:一种搪瓷桶烘烤箱及其操作方法
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的