[发明专利]在修复周期期间保护特征的方法在审
| 申请号： | 201611015782.1 | 申请日： | 2016-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107032829A | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | J.H.韦弗;G.S.科曼;A.克贝德;D.G.邓;J.G.马南特 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | C04B41/85 | 分类号： | C04B41/85;C04B41/87 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 严志军,李强 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 修复 周期 期间 保护 特征 方法 | ||
【权利要求书】：
1. 一种方法，包括：
将掩模应用至陶瓷基质复合物(CMC)结构；以及
使具有所述掩模的所述结构经历修复过程。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述修复过程包括熔体渗透(MI)。
3.根据权利要求2所述的方法，其特征在于，所述掩模包括在所述修复过程中对液体润湿有抗性的材料。
4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩模包括选自由包括氮化物的材料和包括氧化物的材料组成的组的抗润湿材料。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩模包括选自由包括氮化硼的材料和包括二氧化硅的材料组成的组的抗润湿材料。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩模包括在所述修复过程的处理条件下热稳定的材料。
7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述修复过程包括熔体渗透，其中所述应用包括将所述掩模应用至所述结构的功能特征，且其中所述掩模适于在熔体渗透期间阻止液态材料流至所述功能特征。
8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述掩模包括BN，且其中所述液态材料包括液态硅。
9.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述掩模包括氧化物材料，且其中所述液态材料包括液态硅。
10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述修复过程包括化学气相渗透(CVI)。
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