[发明专利]一种钼酸镁/石墨烯纳米片阵列及其制备方法有效
申请号: | 201610986194.6 | 申请日: | 2016-11-09 |
公开(公告)号: | CN106564950B | 公开(公告)日: | 2017-12-22 |
发明(设计)人: | 张利锋;贺文杰;刘毅;郑鹏;原晓艳;郭守武 | 申请(专利权)人: | 陕西科技大学 |
主分类号: | C01G39/00 | 分类号: | C01G39/00;C01B32/184 |
代理公司: | 西安通大专利代理有限责任公司61200 | 代理人: | 陆万寿 |
地址: | 710021 *** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 钼酸 石墨 纳米 阵列 及其 制备 方法 | ||
1.一种钼酸镁/石墨烯纳米片阵列的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
1)将二水钼酸钠与六水氯化镁按照1:(1~3)的摩尔比溶于去离子水中,并在170~190℃下水热反应3~7h,产物离心、洗涤、干燥,得到混合物A;
2)按照1:(0.5~1)的质量比,将混合物A与浓度为0.1~0.5mol/L的氧化石墨烯水溶液均匀混合,搅拌、超声0.5-1h,再将混合均匀的产物离心、洗涤、干燥,得到混合物B;
3)将混合物B在氩气气氛下煅烧,得到黑色钼酸镁/石墨烯复合材料。
2.根据权利要求1所述的钼酸镁/石墨烯纳米片阵列的制备方法,其特征在于,所述步骤3)中,煅烧温度为400℃~600℃,煅烧时间为1h~3h。
3.一种采用权利要求1或2所述方法制备的钼酸镁/石墨烯纳米片阵列,其特征在于,所述钼酸镁/石墨烯纳米片阵列是由垂直交叉的钼酸镁/石墨烯纳米片组成,横截面直径为100±30nm,厚度为20nm。
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