[发明专利]多层膜结构

权利要求书

1.一种镀于工件基材表面的多层膜结构，其特征在于，由一高熵材料膜层与一非高熵材料膜层交互堆栈而成；该多层膜结构至少包含两层高熵材料膜层，且该多层膜结构的一总纳米压痕硬度至少为10 GPa，而其厚度至少0.1μm。

2.根据权利要求1所述的多层膜结构，其特征在于，该非高熵材料膜层选自包含于下列群组之中的任一种膜层：非高熵纯金属膜层、非高熵合金膜层、非高熵氮化物膜层、非高熵碳化物膜层、非高熵硼化物膜层、非高熵类钻膜层、非高熵氮氧化物膜层、非高熵碳氮化物膜层、非高熵氧化物膜层、与非高熵碳氧化物膜层。

3.根据权利要求1所述的多层膜结构，其特征在于，该高熵材料膜层选自包含于下列群组之中的任一种膜层：高熵合金膜层、高熵氮化物膜层、高熵碳化物膜层、高熵氮氧化物膜层、高熵碳氮化物膜层、高熵氧化物膜层、与高熵碳氧化物膜层。

4.根据权利要求1所述的多层膜结构，其特征在于，该非高熵材料膜层与该高熵材料膜层利用物理气相沉积技术制成。

5.根据权利要求4所述的多层膜结构，其特征在于，所述物理气相沉积技术可为下列任一种：溅镀法、电弧气相沉积法或离子镀法。

6.一种镀于工件基材表面的多层膜结构，其特征在于，由一第一高熵材料膜层与一第二高熵材料膜层交互堆栈而成；其中，该多层膜结构的一堆栈层数至少两层，且该多层膜结构的一总纳米压痕硬度至少为10 GPa，而其厚度至少0.1μm。

7.根据权利要求6所述的多层膜结构，其特征在于，该第一高熵材料膜层与该第二高熵材料膜层选自包含于下列群组之中的任一种膜层：高熵合金膜层、高熵氮化物膜层、高熵碳化物膜层、高熵氮氧化物膜层、高熵碳氮化物膜层、高熵氧化物膜层、与高熵碳氧化物膜层。

8.根据权利要求6所述的多层膜结构，其特征在于，该第一高熵材料膜层与该第二高熵材料膜层利用物理气相沉积技术制成。

9.根据权利要求8所述的多层膜结构，其特征在于，所述物理气相沉积技术可为下列任一种：溅镀法、电弧气相沉积法或离子镀法。