[发明专利]一种钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备

权利要求书

1.一种钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备，其特征在于，包括第一支撑结构、第二支撑结构、固定结构、定位结构、供给结构、涂覆结构、第一传动结构和第二传动结构；

所述第一支撑结构包括第一底座(1)、定位销固定件(2)和支撑件(3)；定位销固定件(2)固定在第一底座(1)的两侧，支撑件(3)均匀地固定于第一底座(1)的中间位置；所述固定结构包括磁体固定件(4)，所述磁体固定件(4)置于支撑件(3)上；

所述定位机构包括套筒(5)和定位销(8)，定位销(8)穿过磁体固定件(4)安装在定位销固定件(2)上，所述套筒(5)安装在定位销(8)上；

所述供给机构位于所述固定结构的上方、包括扩散物质控制件(9)和扩散物质供给件(12)；所述扩散物质供给件(12)位于扩散物质控制件(9)的左侧、且底部设有开口空腔(121)，所述扩散物质控制件(9)的右侧上开有多个漏料孔(91)；

所述涂覆结构包括电动机支撑件(13)、第二电动机(14)和涂覆杆(22)；所述电动机支撑件(13)通过螺钉固定在扩散物质供给件(12)上，第二电动机(14)通过螺钉垂直固定在电动机支撑件(13)上；涂覆杆(22)呈倒T型，竖杆通过联轴器与第二电动机(14)相连，横杆位于扩散物质供给件(12)内部、且与扩散物质控制件(9)间隙配合，第二电动机(14)驱动涂覆杆(22)做旋转运动；

所述第一传动结构包括第一电动机(10)和丝杠(11)；第一电动机(10)水平固定于扩散物质控制件(9)的右侧端部，丝杠(11)的一端通过联轴器与第一电动机(10)连接，另一端与扩散物质供给件(12)的右侧端部固定连接，第一电动机(10)驱动扩散物质供给件(12)在扩散物质控制件(9)上左右移动；

所述第二传动结构固定在所述第二支撑结构上、且与扩散物质控制件(9)的左侧端部连接，驱动扩散物质控制件(9)上、下、左、右移动。

2.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备，其特征在于，所述第二传动结构包括横向滚珠丝杠系统支撑件(15)、连接杆(16)、第三电动机(17)和纵向滚珠丝杠系统支撑件(18)；纵向滚珠丝杠系统支撑件(18)垂直安装在横向滚珠丝杠系统支撑件(15)内的螺母上，第三电动机(17)安装在纵向滚珠丝杠系统支撑件(18)的上端，连接杆(16)的一端安装在纵向滚珠丝杠系统支撑件(18)的下端，所述连接杆(16)的另一端与扩散物质控制件(9)的左侧端部连接，第三电动机(17)驱动连接杆(16)上下移动、带动扩散物质控制件(9)上下移动；所述纵向滚珠丝杠系统支撑件(18)可以在横向滚珠丝杠系统支撑件(15)上左右移动，带动扩散物质控制件(9)左右移动。

3.根据权利要求2所述的钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备，其特征在于，所述第二支撑结构包括连接座(19)、支撑座(20)和第二底座(21)，连接座(19)安装在支撑座(20)上面，支撑座(20)安装在第二底座(21)上面；所述纵向滚珠丝杠系统支撑件(18)的左侧与连接座(19)固定连接。

4.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备，其特征在于，所述磁体固定件(4)上开有与定位销(8)相配合的定位孔(41)、中部设有若干磁体固定孔(42)；磁体(7)置于磁体固定孔(42)内，定位销(8)穿过定位孔(41)安装在定位销固定件(2)上。

5.根据权利要求4所述的钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备，其特征在于，所述定位孔(41)有两个，位于磁体固定件(4)的对角线布置。

6.根据权利要求4所述的钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备，其特征在于，所述磁体(7)与磁体固定孔(42)过盈配合。

7.根据权利要求1所述的钕铁硼磁体晶界扩散处理的涂覆设备，其特征在于，所述套筒(5)位于两个磁体固定件(4)之间。