[发明专利]一种秋石斛花期调控方法有效

专利信息
申请号: 201610942799.5 申请日: 2016-10-26
公开(公告)号: CN106613114B 公开(公告)日: 2019-12-13
发明(设计)人: 廖易;张东雪;陆顺教;李崇晖;杨光穗;王存 申请(专利权)人: 中国热带农业科学院热带作物品种资源研究所
主分类号: A01G22/63 分类号: A01G22/63;A01C21/00;A01G7/06
代理公司: 46001 海口翔翔专利事务有限公司 代理人: 莫臻
地址: 57173*** 国省代码: 海南;46
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摘要:
搜索关键词: 一种 石斛 花期 调控 方法
【权利要求书】:

1.一种秋石斛花期调控方法,其特征在于,其具体步骤如下:

1)、小苗管理阶段

从苗圃中选取长势良好、健壮的组培幼苗于10月份移栽到花盆中,定植后6个月内为小苗管理阶段,植株指标:株高小于10cm、具有1~2个假鳞茎;小苗管理阶段每月施肥3~4次,浓度为0.1%,pH6.5~7.0,施肥方式为叶面喷施并结合灌根,灌根的施肥量为肥液渗透栽培基质、刚好从底部滴出;肥料为氮磷钾均衡肥,即肥料中的氮、磷、钾的比例为N:P2O5:K2O=20:20:20;定植2~3月待小苗恢复长势后,每月增施1次高钾肥,即肥料中的氮、磷、钾的比例为N:P2O5:K2O=15:10:30;水分管理视天气情况每1~2天喷雾1次,施肥当天不再需要喷雾;温度控制在28~32℃,冬季利用保温措施使温度不能低于15℃;光强度控制在6~8万lux;

2)、中苗管理阶段

待小苗定植至7~8个月,植株生长至株高15cm以上、具有3~4个假鳞茎,进行中苗管理阶段,期间,每月施肥4次,浓度为0.02%,pH6.5~7.0,施肥方式与小苗管理阶段的施肥方式相同;肥料为氮磷钾均衡肥,即肥料中的氮、磷、钾的比例为N:P2O5:K2O=20:20:20,每月施用3次,另外每月施用1次高钾肥,即肥料中的氮、磷、钾的比例为N:P2O5:K2O=15:10:30;水分管理为每天早晚喷雾1次,光照强度控制在7~9万lux;

3)、大苗管理阶段

待小苗定植至9~10个月,植株生长至株高20cm以上、具有4个以上的假鳞茎,进入大苗管理阶段,期间,每月施肥4次,浓度为0.02%,pH6.5~7.0,施肥方式与小苗管理阶段的施肥方式相同;肥料为氮磷钾均衡肥,即肥料中的氮、磷、钾的比例为N:P2O5:K2O=20:20:20,每月施用3次,另外每月施用1次高磷肥,即肥料中的氮、磷、钾的比例为N:P2O5:K2O=9:45:15;水分管理为每天早晚喷雾1次;光照强度控制在7~9万lux;

4)、催花阶段

在秋石斛目标花期前60天,采用植物生长调节剂6-苄氨基嘌呤对秋石斛大苗进行叶面喷施和灌根处理,处理频度为7天1次,使用总次数为4次,采用浓度梯度施用的模式,即第1次使用浓度为200mg/L、第2次使用浓度为150mg/L、第3次使用浓度为100mg/L、第4次使用浓度为50mg/L;每次每株叶面喷施10ml和灌根20ml,合计每株施用30ml。

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