[发明专利]一种Bi6Ti3Fe2O18层状多铁外延薄膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610937184.3 申请日: 2016-11-01
公开(公告)号: CN108004592B 公开(公告)日: 2019-09-13
发明(设计)人: 曹逊;金平实;孙光耀 申请(专利权)人: 中国科学院上海硅酸盐研究所
主分类号: C30B29/22 分类号: C30B29/22;C30B25/02;C30B33/02
代理公司: 上海瀚桥专利代理事务所(普通合伙) 31261 代理人: 郑优丽;熊子君
地址: 200050 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 bi base sub
【说明书】:

发明涉及一种Bi6Ti3Fe2O18层状多铁外延薄膜及其制备方法,所述薄膜采用脉冲激光沉积法制得,化学组成为Bi6Ti3Fe2O18。本发明的Bi6Ti3Fe2O18层状多铁薄膜物相纯度高,XRD表征结果无杂相,且TEM结果表明薄膜具有良好外延特性,铁电性能良好且同时具备可观的铁磁性,是优异的室温多铁薄膜材料,非常有利于新型多铁薄膜的研发与推广。

技术领域

本发明属于新材料制备技术领域,涉及一种Bi6Ti3Fe2O18层状多铁外延薄膜及其制备方法。

背景技术

多铁材料能够同时表现铁电性和铁磁性,并且它们之间存在磁电耦合作用,从而可以实现电与磁的相互调控(J.Wang and R.Ramesh,Science 299,1719(2003);W.Eerenstein and J.F.Scott,Nature 442,759(2006);)。因此,多铁材料作为一种新型多功能材料,在自旋电子学和其他众多领域有着广阔的应用前景。其中多铁性薄膜材料可与微电子工艺兼容,使得多铁薄膜可以广泛应用于微传感器和多态存储等领域。例如,磁记录读取速度快而写入慢,铁电记录读取复杂而写入快,如果使用多铁薄膜材料作为记录介质,可以实现高速度的读写过程。

实现多态存储就需要获得铁电性能好的多铁薄膜,这一目标目前通常采用的物理法沉积外延薄膜来实现,如脉冲激光沉积,分子束外延,磁控溅射等(Y Chu,and R.Rameshet al,Nature Material 7,478(2008);),其中脉冲激光沉积具有重复性高,制备薄膜更加符合化学计量比,外延薄膜质量高,过程简单等优势,更加适合制备成分复杂的多元氧化物薄膜。

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