[发明专利]一种制备双层钯复合膜的方法

权利要求书

1.一种制备双层钯复合膜的方法，其特征在于：在钯复合膜表面涂覆或沉积一层厚度为1-10μm的多孔材料后再沉积一层金属钯膜，从而得到高稳定性的双层钯复合膜材料。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所用的多孔材料孔径大小在1-50nm之间，多孔膜材料可以是分子筛、Al2O3、CeO2、TiO2、ZrO2、SiO2中的一种或几种。

3.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述多孔材料是采用水热合成制备分子筛层或“改进的”溶胶凝胶法制备Al2O3、CeO2、TiO2、ZrO2、SiO2中的一种或二种以上材料层，其厚度是0.5～10μm。

4.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述沉积采用化学镀方法，钯试剂可以是PdSO4,PdCl2,Pd(NO3)2或醋酸钯等中的一种或二种以上，钯试剂的浓度是0.1mol/L～10mol/L。

5.如权利要求1所述的方法，其特征在于：所述沉积采用化学镀方法，还原剂可以是肼、SnCl2等中的一种或二种以上，还原剂的浓度是0.1mol/L～10mol/L。

6.如权利要求1、4或5所述的方法，其特征在于：所述沉积采用化学镀，温度在308-333K之间，每次反应时间为1-3h，重复次数为2-10次。

7.如权利要求1、4、5或6所述的方法，其特征在于：两层金属钯膜的厚度均为0.5～20μm。