[发明专利]集成电路在审

专利信息
申请号: 201610912600.4 申请日: 2016-10-20
公开(公告)号: CN107016145A 公开(公告)日: 2017-08-04
发明(设计)人: 刘逸群 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: G06F17/50 分类号: G06F17/50
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 集成电路
【说明书】:

技术领域

发明实施例涉及集成电路。

背景技术

布线电路设计涉及确定电性连接至电路元件的金属导线的布线,以产生实行所期望功能的经布线电路。应用布线规则来规定电路布局的约束条件。然而,对于需要满足对电路设计的其他部分来说所不存在的特殊要求的某些电路,则应用非默认布线规则(non-default routing rule,NDR)。

发明内容

本发明实施例提供一种集成电路,其包括单元以及第一多个导电区段。所述导电区段中的每一者具有第一预定宽度,且所述第一多个导电区段包括第一导电区段以及第二导电区段。其中,所述第一导电区段及所述第二导电区段耦合至所述单元以传输信号,且所述第一导电区段与所述第二导电区段之间的距离大于所述第一预定宽度。

附图说明

结合附图阅读以下详细说明,会最好地理解本发明实施例的各个方面。应注意,根据本产业中的标准惯例,各种特征结构并非按比例绘制。事实上,为论述清晰起见,可任意增大或减小各种特征结构的尺寸。

图1是依据一些本发明实施例的设计系统的示意图。

图2是依据一些本发明实施例的集成电路的示意图。

图3是依据一些本发明实施例的布局方法的流程图。

附图标号说明

100:设计系统;

110:处理器;

120:存储器;

130:输入/输出(I/O)接口;

200:集成电路;

210:单元;

212:端子;

220:布线格网;

300:布局方法;

P:中心对中心节距;

S:最小间隔/间隔/最小线间隔/间隔宽度;

S310、S320、S330、S340、S350、S360、S370、S372、S374、S376:操作;

SIG1:信号;

T11~T17:布线轨道;

T21~T25:布线轨道;

V1~V6:通孔;

W1:预定宽度/线宽度/导线宽度/默认线宽度;

W2:预定宽度/线宽度/导线宽度/默认线宽度;

W11、W12、W13、W14、W21、W22:导电区段。

具体实施方式

以下公开内容提供用于实作所提供主题的不同特征结构的许多不同的实施例或实例。以下阐述组件及排列的具体实例以简化本公开内容。当然,这些仅为实例且不旨在进行限制。例如,以下说明中将第一特征结构形成在第二特征结构“之上”或第二特征结构“上”可包括其中第一特征结构及第二特征结构被形成为直接接触的实施例,且也可包括其中第一特征结构与第二特征结构之间可形成有附加特征结构、进而使得所述第一特征结构与所述第二特征结构可能不直接接触的实施例。另外,本公开内容可能在各种实例中重复参考编号及/或字母。这种重复是出于简洁及清晰的目的,而不是自身表示所论述的各种实施例及/或配置之间的关系。

本公开内容中使用的用语一般具有其在所属领域中及在使用每一用语的具体上下文中的普通含义。在本公开内容中使用实例(包括本发明实施例中所论述的任一项的实例)仅为说明性的,且绝非限制本发明实施例或任何所例示项的范围及含义。相同地,本发明实施例并不仅限于本公开内容中所给定的各种实施例。

尽管本公开内容中可能使用用语“第一”、“第二”等来阐述各种元件,然而这些元件不应受这些用语限制。这些用语是用于区分各个元件。例如,在不背离所述实施例的范围的条件下,可称第一元件为第二元件,且相似地,可称第二元件为第一元件。本公开内容中所用用语“及/或”包括相关列出项其中一个或多个项的任意及全部组合。

在本公开内容中,用语“耦合”也可被称作“电性耦合”,且用语“连接”可被称作“电性连接”。“耦合”及“连接”也可用于表示两个或更多个元件彼此协作或交互作用。

图1是依据一些本发明实施例的设计系统100的示意图。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610912600.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top