[发明专利]一种真空灭弧室触头结构在审
| 申请号： | 201610907133.6 | 申请日： | 2016-10-17 |
| 公开（公告）号： | CN106653467A | 公开（公告）日： | 2017-05-10 |
| 发明（设计）人： | 王清华;周倜 | 申请（专利权）人： | 湖北大禹汉光真空电器有限公司 |
| 主分类号： | H01H33/664 | 分类号： | H01H33/664 |
| 代理公司： | 武汉河山金堂专利事务所(普通合伙)42212 | 代理人： | 胡清堂 |
| 地址： | 432000 *** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 真空 灭弧室触头 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种真空灭弧室触头结构，其特征在于，包括静触头和动触头，所述动触头相对所述静触头一侧形成有球形凸面，所述静触头相对所述动触头一侧形成一与所述球形凸面相配合的球形凹面；其中，所述球形凸面上设置有多个外凹槽，所述球形凹面上设置有多个内凹槽。
2.根据权利要求1所述的真空灭弧室触头结构，其特征在于，每个所述外凹槽和内凹槽分别沿所述球形凸面和球形凹面呈螺旋状布置。
3.根据权利要求2所述的真空灭弧室触头结构，其特征在于，所述外凹槽和内凹槽的横截面均呈弧形，且所述外凹槽和内凹槽的边缘分别与所述球形凸面和球形凹面平滑过渡。
4.根据权利要求3所述的真空灭弧室触头结构，其特征在于，多个所述外凹槽与多个所述内凹槽相对应设置。
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