[发明专利]测量厚度的方法、处理图像的方法及执行其的电子系统有效
申请号: | 201610899136.X | 申请日: | 2016-10-14 |
公开(公告)号: | CN106601642B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 朴民哲;李济铉;高汀勋;金锳九;李根浩 | 申请(专利权)人: | 三星电子株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01B15/02;G06T7/00;G06T5/00;G06T5/50 |
代理公司: | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人: | 刘灿强;王占杰 |
地址: | 韩国京畿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 厚度 方法 处理 图像 执行 电子 系统 | ||
1.一种测量厚度的方法,所述方法包括以下步骤:
获得结构的原始图像,所述结构包括第一层,第一层包括第一边界和第二边界,原始图像包括具有第一层的结构的图像,第二边界在原始图像中是难以辨识的;
在原始图像中提取第一层的第一边界;
基于提取的第一边界将原始图像转换为第一图像;
基于对第一图像的滤波来生成第二图像;
在第二图像中提取第一层的第二边界;以及
基于在第二图像中提取的第二边界计算第一层的厚度。
2.根据权利要求1所述的方法,其中,在原始图像中提取第一层的第一边界的步骤包括:
基于在原始图像中的灰度值变化来在原始图像中检测多个边界点;
将第一边界确定为贯穿所述多个边界点延伸的线。
3.根据权利要求2所述的方法,其中,基于在原始图像中的灰度值变化来在原始图像中检测所述边界点中的每个的步骤包括确定给定的边界点的灰度值与相邻于给定的边界点的第一点的灰度值之差大于阈值灰度值。
4.根据权利要求1所述的方法,其中,将原始图像转换为第一图像的步骤包括:
基于在原始图像中提取的第一边界来在原始图像中识别目标区域,所述目标区域与所述结构和第一层相关;
将在原始图像中的多个边界点映射为在第一图像中的多个轴点,所述多个边界点与在原始图像中的第一边界相对应;以及
基于所述多个轴点通过改变在目标区域中的多个局部图像的布置来获得第一图像,使得所述多个轴点限定与第一图像的轴平行地延伸的线。
5.根据权利要求4所述的方法,其中,
所述多个边界点非线性地布置在原始图像中,
所述多个轴点线性地布置在第一图像中,包括所述多个轴点的第一线性线与第一方向平行,
所述多个局部图像在第一图像中沿与第一方向交叉的第二方向布置。
6.根据权利要求5所述的方法,其中,所述多个边界点在原始图像中布置为圆形形状或椭圆形形状。
7.根据权利要求4所述的方法,其中,生成第二图像的步骤包括:
将第一图像分为多个子区域;以及
对所述多个子区域中的每个执行平均操作,以生成多个平均化的子区域,使得第二图像包括所述多个平均化的子区域。
8.根据权利要求7所述的方法,其中,
所述多个轴点线性地布置在第一图像中,包括所述多个轴点的第一线性线与第一方向平行,
所述多个子区域中的每个具有沿第一方向延伸的第一边和沿与第一方向垂直的第二方向延伸的第二边,
第二边比第一边短。
9.根据权利要求7所述的方法,其中,基于高斯滤波器来执行平均操作。
10.根据权利要求7所述的方法,所述方法还包括:
从第一图像去除噪声以至少部分地生成第二图像。
11.根据权利要求10所述的方法,所述方法还包括:
基于域变换滤波器从第一图像去除噪声。
12.根据权利要求1所述的方法,其中,
基于直角坐标在原始图像中表示所述结构,
基于极坐标在第一图像和第二图像中表示所述结构。
13.一种电子系统,所述电子系统包括:
图像成像装置,被构造为接收结构的原始图像,所述结构包括第一层;
存储器;以及
与存储器彼此协作的处理器,以在原始图像中提取第一层的第一边界,基于提取的第一边界将原始图像转换为所述结构的第一图像,基于对所述结构的第一图像的滤波而生成所述结构的第二图像,并且在所述结构的第二图像中提取第一层的第二边界。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造