[发明专利]一种平板颗粒度检测方法

说明书

技术领域

本发明涉及颗粒度检测技术，特别涉及一种平板颗粒度检测方法。

背景技术

在半导体集成电路或平板显示的制备工艺中，为提高产品良率，污染控制是一个至关重要的环节。掩模板、硅片或玻璃基板等在进行曝光前，都需要进行异物检测，例如外来颗粒、指纹、划痕、针孔等异物。

一般集成在光刻设备中的颗粒检测装置通常采用暗场散射测量技术，其检测原理如图1所示。辐射光源10发出的光线101被待检测平板40上的异物散射，被散射的信号光102进入探测单元20。但这种检测装置结构会受到颗粒镜像串扰，当检测平板是下表面为铬的掩模时，这种情况尤为严重，同时平板下表面图案30串扰也会严重影响探测信号的信噪比，进而影响检测准确性。

发明内容

本发明为了克服现有的问题，提供了一种平板颗粒度检测方法，极大的降低了颗粒镜像以及平板下表面图案串扰，提高信噪比，进而可以提高检测的准确性。

为实现上述目的，本发明的技术方案如下：

一种平板颗粒度检测方法，主要包括以下步骤：

通过光源模块照射待检测平板，产生照明视场；

调节照明视场半宽；

调节照明视场中心强度和照明视场半宽边缘处的强度；

接着，调整光源模块的光源强度、位置以及探测器的位置；

通过探测器获取平板异物信号。

可选地，所述调节照明视场半宽满足s<＝2h*tanθ-0.5w，其中s为照明视场半宽，h为待检平板的厚度，θ为探测接收角度在待测平板中的折射角，w为成像视场的宽度。

可选地，所述调节照明视场中心光强与照明视场半宽边缘处的光强满足i_center/i_edge>(i_min p1/i_max p1_mir)*snr1，所述i_center为照明视场中心光强，i_edge为照明视场半宽边缘处的光强，i_min p1为待检测最小颗粒的接收信号，i_max p1_mir为待检测最大颗粒的镜像串扰信号，snr1为抑制颗粒串扰需要满足的信噪比。

可选地，所述调节照明视场半宽满足s<＝h*(tanθ+tanγ)，其中s为照明视场半宽，h为待检平板的厚度，θ为探测接收角度在平板中的折射角，γ为入射角度在平板中的折射角。

可选地，所述调节照明视场中心光强与照明视场半宽边缘处的光强满足i_center/i_edge>(i_min p2/i_max p2)*snr2，所述i_center为照明视场中心光源强度，i_edge为照明视场半宽边缘处的光源强度，i_min p2为待检测最小平板图像的接收信号，i_max p2为平板图像串扰的最大信号，snr2为抑制平板图像串扰需要满足的信噪比。

可选地，所述探测单元采用面阵相机、线阵相机或者线阵TDI相机。

可选地，所述光源模块为激光或LED光。

为了达到上述目的，本发明还提出一种平板颗粒度检测方法，通过仿真软件选取光源的入射角和探测器的接收角，并在根据该入射角和接收角，设置光源模块和探测器。

本发明提供了一种平板颗粒度检测方法，通过调节照明视场半宽、照明视场中心光强以及照明视场半宽边缘处光强，来调整光源模块强度、位置以及探测器的位置，极大的降低了颗粒镜像以及平板下表面图案串扰，提高信噪比，进而可以提高平板异物检测的准确性。

附图说明

图1为现有技术平板异物检测系统结构示意图；

图2为本发明实施例异物检测系统结构示意图；

图3为本发明实施例抑制颗粒镜像串扰示意图；

图4为本发明实施例抑制平板图像串扰示意图。

具体实施方式

为使本发明的目的、技术方案更加清楚明白，以下结合附图和具体实施例对本发明的方法作进一步详细说明。

如图2至图4所示，本发明提供一种平板颗粒度检测方法，包括：

通过光源模块10照射待检测平板40，产生照明视场101。具体地，将光源模块10放置于待测平板40上方，光源模块10照射待检测平板40，产生照明视场101，并且形成入射角α。将探测单元20放置于待检测平板40上方光源模块10相对位置，形成探测接收角度β。探测单元20可以采用面阵相机、线阵相机或者线阵TDI相机，本实施例优选探测单元20为CCD相机。光源模块10为激光或LED光，本实施例优选光源模块10为LED灯。