[发明专利]一种激光薄膜刻蚀装置及方法有效
| 申请号： | 201610874943.6 | 申请日： | 2016-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN106271089B | 公开（公告）日： | 2019-01-25 |
| 发明（设计）人： | 杨焕;张杰;马明鸿;秦国双 | 申请（专利权）人： | 英诺激光科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B23K26/362 | 分类号： | B23K26/362;B23K26/12;B23K26/402;B23K26/064;B23K26/0622 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 冯筠 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市南山区科技*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 激光 激光薄膜 刻蚀装置 扩束装置 工控机 场镜 刻蚀 振镜 薄膜 激光器发射激光 脉冲串模式 超快激光 高斯分布 合适波长 激光扫描 加工平台 控制光束 真空装置 激光器 质量差 光阑 扩束 沉渣 损伤 驱动 发射 输出 加工 | ||
1.一种激光薄膜刻蚀装置，其特征在于，包括：用于发射超快激光的激光器；对激光进行扩束的扩束装置；用于控制光束透过的光阑；驱动激光扫描的振镜，场镜以及工控机；其中，在所述工控机的控制下，所述激光器发射激光，激光依次经过所述扩束装置、光阑、振镜以及场镜作用在位于加工平台上的表面设有薄膜的工件上，进行薄膜刻蚀，其中，所述的加工平台上还设有一真空装置，待加工的工件位于所述真空装置内以使工件形成真空刻蚀环境，所述激光器根据待加工的工件基底与表面薄膜的特性，波长为：对表面薄膜吸收率小于20％，对基底的吸收率大于50％，所述的激光器发射激光的模式为脉冲串，所述的脉冲串模式为：将单个高能量激光脉冲分解为三个及以上的连续脉冲串，所述的振镜为3D振镜。
2.一种激光薄膜刻蚀方法，其特征在于，包括以下步骤：
第一步，将待加工的工件放置位于加工平台上的真空装置内；
第二步，开启真空装置，使工件处于真空环境中；
第三步，开启激光器，并将激光器调整至脉冲串模式，对工件进行扫描刻蚀；其中，所述激光器发射的激光为超快激光，激光波长根据工件的基底及表面薄膜特性选择为：对表面薄膜吸收率低于20％，对基底的吸收率大于50％，所述激光器发射的激光经过一光路系统调节后作用于工件，所述光路系统包括：对激光进行扩束的扩束装置；用于控制光束透过的光阑；驱动激光扫描的振镜，场镜以及工控机；其中，在所述工控机的控制下，所述激光器发射激光，激光依次经过所述扩束装置、光阑、振镜以及场镜作用位于加工平台上的表面设有薄膜的工件上，进行薄膜刻蚀，所述的脉冲串模式为：将单个高能量激光脉冲分解为三个及以上的连续脉冲串。
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