[发明专利]照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统

权利要求书

1.一种照明均匀性校正装置，设置于掩模版上方，其特征在于，包括：

可变遮光校正装置，包括若干设置在照明光束横截面的校正组件对，若干所述校正组件对沿非扫描方向间隔排列设置以覆盖整个照明场，沿扫描方向重叠设置以覆盖整个所述照明场；

可变灰度补偿板装置，包括两片可相对移动的不同灰度透过率的平板；以及

可变反射镜阵列装置，包括可变反射镜光学装置，所述可变反射镜光学装置由多个可变反射率的反射镜阵列组成，

通过调节所述校正组件对的形状和重叠方式、所述平板的透过率以及所述反射镜阵列的反射率，调节多个照明模式下整个所述照明场的照明均匀性。

2.如权利要求1所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述可变遮光校正装置设置于所述掩模版附近或所述掩模版的光学共轭面附近。

3.如权利要求1所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述校正组件对包括沿扫描方向插入所述照明场的第一校正组件，和沿扫描反方向插入所述照明场的第二校正组件，所述第一校正组件与第二校正组件数量相同且一一对应。

4.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件上在所述扫描方向与光束传输方向上呈相互平行的平板状，且所述第一校正组件和第二校正组件能够分别在所述扫描方向上做至少一维运动，以改变二者的相对位置。

5.如权利要求4所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件的透过率分布随位置变化而变化，且所述第一校正组件的透过率分布与第二校正组件的透过率分布在移动方向上具有相反的变化趋势。

6.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件的透过率分布至少是一维的透过率分布。

7.如权利要求6所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件的透过率分布为一次函数分布，或者二次函数分布，或者三角函数分布，或者上述若干种函数的组合分布。

8.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件在垂直于所述扫描方向的光束传输截面是矩形，所述第一校正组件和第二校正组件在所述非扫描方向错位重叠设置。

9.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件在垂直于所述扫描方向的光束传输截面是平行四边形或梯形，所述第一校正组件和第二校正组件在所述非扫描方向错位重叠设置，或者无错位完全重叠设置。

10.如权利要求5所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件在垂直于所述扫描方向的光束传输截面是阶梯形，所述第一校正组件和第二校正组件相对于光束截面具有镜像结构。

11.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所有的所述第一校正组件设置于同一平面上，且相邻的两个所述第一校正组件之间设置第一间隔隔开；所有的所述第二校正组件设置于与所述第一校正组件所在平面相异的另一平面上，且相邻的两个所述第二校正组件之间设置第二间隔隔开。

12.如权利要求11所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一间隔与所述第二间隔大小相等，均为0.1mm。

13.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件由透射材料制成。

14.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件通过在制造材料上沉积透射物或衰减物制成。

15.如权利要求3所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述第一校正组件和第二校正组件通过在制造材料上沉积随机点状衰减物或挡光物制成。

16.如权利要求1所述的照明均匀性校正装置，其特征在于，所述可变灰度补偿板装置设置于所述掩模版附近或所述掩模版的光学共轭面附近。