[发明专利]金相组织检测方法在审
申请号: | 201610854074.0 | 申请日: | 2016-09-27 |
公开(公告)号: | CN107870112A | 公开(公告)日: | 2018-04-03 |
发明(设计)人: | 姚力军;潘杰;相原俊夫;王学泽;胡淼锡 | 申请(专利权)人: | 宁波江丰电子材料股份有限公司 |
主分类号: | G01N1/32 | 分类号: | G01N1/32;G01N1/28;G01N21/84 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 徐文欣,吴敏 |
地址: | 315400 浙江省宁波*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 金相 组织 检测 方法 | ||
技术领域
本发明涉及金属组织检测领域,尤其涉及一种金相组织检测方法。
背景技术
金属材料是指由金属元素或以金属元素为主构成的具有金属特性的材料的统称。金属材料包括纯金属、合金、金属间化合物和特种金属材料等。金属材料在农业现代化、工业现代化、国防和科学技术现代化等领域都有重要应用。
金属材料的内部组织结构与材料的硬度、强度、延展性等性能有着直接和密切的联系。金相检测法是研究金属材料内部组织结构最为有效的方法。
随着科学技术的发展,高纯钴成为一种新的战略金属材料,钴及其合金广泛应用于电机、机械、化工、航空和航天等领域。对于这些新型的合金材料,需要新的金相组织研究方法。
然而,现有的高纯钴的金相组织检测方法对金属内部组织检测不精确。
发明内容
本发明解决的问题是提供一种金相组织检测方法,能够更清楚地对金相组织进行检测。
为解决上述问题,本发明提供一种金相检测方法方法,包括:提供钴样品,所述钴样品包括观察面,所述观察面具有凹陷;对所述钴样品观察面进行电解抛光处理,减小所述钴样品观察面凹陷的深度;电解抛光处理之后,对所述钴样品观察面进行检测。
可选的,进行电解抛光处理的步骤包括:提供电解液和阴极;将所述阴极和所述钴样品置于所述电解液中;将所述阴极和所述钴样品置于所述电解液中之后,在所述钴样品上施加第一电位;将所述阴极和所述钴样品置于所述电解液中之后,在所述阴极上施加第二电位,所述第二电位大于所述第一电位。
可选的,所述电解液包括:高氯酸溶液和醇溶液。
可选的,所述醇溶液包括:乙醇溶液、正丁醇溶液中的一种或两种组合。
可选的,所述醇溶液包括:乙醇溶液和正丁醇溶液,乙醇溶液的体积浓度为60%~70%,正丁醇溶液的体积浓度为8%~11%,高氯酸的体积浓度为30%~40%。
可选的,所述第二电位与所述第一电位的差值为27V~33V,所述电解抛光处理的时间为18s~22s。
可选的,进行所述电解抛光处理之前,还包括:对所述钴样品观察面进行机械抛光处理,降低所述钴样品观察面的粗糙度。
可选的,所述钴样品表面具有杂质;进行所述电解抛光处理之前,还包括:对所述钴样品观察面进行打磨处理,去除所述钴样品表面的杂质。
可选的,通过水性砂纸对所述钴样品观察面进行所述打磨处理。
可选的,所述打磨处理的润湿剂为水。
可选的,所述打磨处理的步骤包括:通过目数为400的水性砂纸对所述钴样品观察面进行第一打磨处理;第一打磨处理之后,通过目数为1000的水性砂纸对所述钴样品观察面进行第二打磨处理;第二打磨处理之后,通过目数为2000的水性砂纸对所述钴样品观察面进行第三打磨处理。
可选的,所述第一打磨处理的时间为5min~10min,所述第二打磨处理的时间为5min~10min,所述第三打磨处理的时间为5min~10min。
可选的,对所述钴样品观察面进行打磨处理的次数为2次~5次。
可选的,电解抛光处理之后,还包括:对所述钴样品进行清洗处理。
可选的,通过显微镜对所述钴样品观察面进行观察。
可选的,所述钴样品中钴的质量百分比为99.999%。
与现有技术相比,本发明的技术方案具有以下优点:
本发明技术方案提供的金相组织检测方法中,对所述钴样品观察面进行检测之前,对所述钴样品观察面进行电解抛光处理。电解抛光处理是一种有选择性的阳极溶解过程。电解抛光处理能够使所述钴样品表面的钴样品材料溶解,且在电解抛光的过程中,凸出表面的部分钴样品材料溶解的速率较快,从而使所述钴样品观察面凹陷的深度减小,或使所述凹陷的数量减少,使钴样品表面更光洁,进而能够更容易观察所述钴样品观察面的晶界,有利于对所述钴样品的内部组织结构做出正确的结论。
附图说明
图1是本发明的金相组织检测方法一实施例各步骤的流程图;
图2至图5是本发明的金相组织检测方法一实施例各步骤的结构示意图。
具体实施方式
金相组织检测方法具有很多缺点,例如不容易对高纯钴的金相组织进行检测。
现结合一种金相组织检测方法,分析所述金相组织检测方法不容易对高纯钴的金相组织进行观察的原因:
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波江丰电子材料股份有限公司,未经宁波江丰电子材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610854074.0/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种拉巴豆的栽培方法
- 下一篇:一种提高菊花品质的种植方法