[发明专利]用于制造微透镜的方法

权利要求书

1.一种用于制造微透镜基片的方法，包括如下步骤：

－提供支承基片，和

－将支承基片预结构化，使得在支承基片前侧上形成突起且在与前侧对置的支承基片后侧上形成对应于所述突起的凹陷，

其特征在于如下步骤：

－将半透明塑料在支承基片的至少一侧上涂敷在所述突起或凹陷的区域内，以形成微透镜，其中，

- 支承基片的预结构化在凹版印刷方法中通过压印实现，并且

- 微透镜与支承基片固定连接，其中所述支承基片作为包括纸和/或支承薄膜的基片提供。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，支承基片的预结构化在雕刻凹版印刷方法中通过压印实现。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，支承基片的预结构化在凹版印刷方法中通过素压印实现。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述支承基片作为包括半透明支承薄膜的基片提供。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，微透镜在凹陷中构造为平凸透镜或双凸透镜。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，微透镜在凹陷中构造为圆柱透镜或球面透镜。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，半透明塑料涂敷在支承基片的背侧上，使得所述半透明塑料在透镜之间空间内中断或连续地形成。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述凹陷的填充通过印刷技术进行。

9.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，以半透明塑料涂敷半透明的、光学上强折射的球或空心球。

10.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，支承基片的素压印在凹版印刷中用凹版印刷板实现，所述凹版印刷板具有凹陷，所述凹陷带有20μm至200μm的刻痕深度、且带有50μm至500μm的刻痕宽度。

11.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，半透明塑料是光学漆，且该方法包括如下的另外步骤：

－使漆干燥，其中干燥通过硬化进行。

12.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，半透明塑料是光学漆，且该方法包括如下的另外步骤：

－使漆干燥，其中干燥通过升高的温度或通过紫外线辐射进行。

13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，微透镜基片具有相对于支承基片的平面镜像对称的结构。

14.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，突起或凹陷按照规则的布置产生。

15.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，支承基片作为半透明支承薄膜存在，所述支承薄膜的厚度为15μm至100μm。

16.根据权利要求1所述的方法，其特征在于还包括如下的另外步骤：

－在支承基片的前侧和/或背侧上施加间隔层。

17.根据权利要求16所述的方法，其特征在于还包括如下的另外步骤：

－施加间隔层，所述间隔层包括光学上强折射的球或空心球。

18.根据权利要求1所述的方法，其特征在于如下步骤：

－将半透明塑料和/或支承基片以栅格结构印刷。

19.根据权利要求1所述的方法，其特征在于如下步骤：

－将半透明塑料和/或支承基片在凹陷的区域内以栅格结构印刷。