[发明专利]一种等离子体处理器、移动环清洁维持系统及方法有效

专利信息
申请号: 201610849212.6 申请日: 2016-09-26
公开(公告)号: CN107871648B 公开(公告)日: 2019-08-30
发明(设计)人: 梁洁;涂乐义 申请(专利权)人: 中微半导体设备(上海)股份有限公司
主分类号: H01J37/32 分类号: H01J37/32
代理公司: 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 代理人: 潘朱慧
地址: 201201 上海市浦东新*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 等离子体 处理器 移动 清洁 维持 系统 方法
【说明书】:

技术领域

发明涉及等离子体刻蚀系统,具体涉及一种等离子体处理器、移动环清洁维持系统及方法。

背景技术

等离子体刻蚀领域一直存在着移动环(Moving Ring)表面聚合物沉积问题,具体的,全新的移动环在经过一段时间的刻蚀过程后,表面会不断沉积聚合物,且聚合物的厚度持续变化,这种聚合物沉积至少会导致以下两个问题:

1、沉积的聚合物会改变移动环的化学、光学以及电学性能,导致刻蚀工艺性能出现不稳定性漂移;

2、当聚合物沉积到一定程度会形成为块状物,使刻蚀过程出现粒子(Particle)掉落问题,严重时影响刻蚀产品优良率;

因此,需要提供一种对刻蚀过程中移动环表面沉积的聚合物进行处理的方法。

发明内容

本发明的目的在于提供一种一种等离子体处理器、移动环清洁维持系统及方法,通过超声波发生器发出的高频震荡信号,通过换能器转换成高频机械振荡传播并均匀辐射到移动环的固体介质中,实现移动环表面及缝隙中污染物迅速剥离,从而达到表面净化的目的。

为了达到上述目的,本发明通过以下技术方案实现:

一种移动环洁净维持系统,用于阻止在等离子处理过程中等离子处理器中的移动环底部和外侧壁表面沉积形成聚合物,所述的等离子处理器包括一反应腔,反应腔内包括一个用于放置待处理晶圆的基座,基座上方包括反应气体进气装置用于输入反应气体到所述基座上方,在等离子处理过程中所述反应气体在基座上方被电离形成等离子体,移动环位于反应腔内并围绕所述等离子体,其特征是,所述的移动环洁净维持系统包含:

超声波换能器,安装在移动环中;

超声波发生器,其输出端连接所述的超声波换能器。

上述的移动环洁净维持系统,其中,还包含:

控制系统,连接所述超声波发生器的输入端,在线控制超声波发生器的输出功率大小和功率持续时间。

上述的移动环洁净维持系统,其中:

在移动环中均匀分布设置多个所述的超声波换能器。

上述的移动环洁净维持系统,其中:

在所述的移动环上开槽,用于容纳所述的超声波换能器。

上述的移动环洁净维持系统,其中:

超声波换能器埋设在移动环中,使超声波换能器不暴露于等离子体。

上述的移动环洁净维持系统,其中:

所述的超声波换能器埋设在移动环的底表面和/或外侧壁中。

一种移动环洁净维持方法,其特征是:

在等离子处理过程中,在移动环中安装超声波换能器,其将超声波发生器发出的高频振动信号转换成高频机械振荡以阻止移动环表面聚合物的聚集;

超声波换能器的输入端连接超声波发生器的输出端,超声波发生器向超声波换能器提供功率以及高频振动信号。

上述的移动环洁净维持方法,其中:

超声波发生器的输入端连接一控制系统,控制系统在线控制超声波发生器的输出功率大小和功率持续时间,以实现超声波换能器对移动环在线清洁维持过程的调节和控制。

上述的移动环洁净维持方法,其中:

在移动环中均匀分布设置多个所述的超声波换能器。

上述的移动环洁净维持方法,其中:

在所述的移动环上开槽,用于容纳所述的超声波换能器。

上述的移动环洁净维持方法,其中:

超声波换能器埋设在移动环中,使超声波换能器不暴露于等离子体。

上述的移动环洁净维持方法,其中:

所述超声波换能器发射超声波的方向为移动环表面聚合物的沉积方向。

一种等离子体处理器,其包含上述的移动环洁净维持系统。

本发明与现有技术相比具有以下优点:通过超声波发生器发出的高频震荡信号,通过换能器转换成高频机械振荡传播并均匀辐射到移动环的固体介质中,实现移动环表面及缝隙中污染物迅速剥离,从而达到表面净化的目的。

附图说明

图1为本发明中安装有超声波换能器的移动环的结构示意图;

图2为本发明的系统图;

图3为本发明的实施例安装结构示意图。

具体实施方式

以下结合附图,通过详细说明一个较佳的具体实施例,对本发明做进一步阐述。

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