[发明专利]ZnO/SiO2微波介质陶瓷的制备方法在审
| 申请号： | 201610842034.4 | 申请日： | 2016-09-22 |
| 公开（公告）号： | CN107867840A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 施海月 | 申请（专利权）人： | 施海月 |
| 主分类号： | C04B35/453 | 分类号： | C04B35/453;C04B35/626;C04B35/634 |
| 代理公司： | 常州市维益专利事务所(普通合伙)32211 | 代理人： | 陆华君 |
| 地址： | 215624 江苏省苏州市张家港市*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | zno sio2 微波 介质 陶瓷 制备 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种ZnO/SiO2微波介质陶瓷的制备方法，其特征在于，采用固相法合成ZnO/SiO2微波介质陶瓷，其中ZnO和SiO2按照摩尔比5:3计量；烧结按照3～5℃/min速率升至1300～1400℃保温2小时。
2.根据权利要求1所述的ZnO/SiO2微波介质陶瓷的制备方法，其特征在于：固相法合成包括预烧步骤，预烧温度1100℃，预烧时间4小时。
3.根据权利要求1所述的ZnO/SiO2微波介质陶瓷的制备方法，其特征在于：固相法合成包括造粒步骤：在陶瓷粉料中加入8wt％的聚乙烯醇，充分研磨后再过筛。
4.根据权利要求1所述的ZnO/SiO2微波介质陶瓷的制备方法，其特征在于：固相法合成包括干压成型，压力控制在180MPa。
5.根据权利要求1所述的ZnO/SiO2微波介质陶瓷的制备方法，其特征在于：烧结完成后冷却至室温，包括首先以1℃/min的速率降到1000℃，再以100℃/小时的速率降到800℃，然后自然冷却至常温。
6.根据权利要求1所述的ZnO/SiO2微波介质陶瓷的制备方法，其特征在于：烧结温度为1350℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于施海月，未经施海月许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610842034.4/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 纳米SiO2复合玻璃棉隔板
- 一种在SiC材料上生长SiO<sub>2</sub>钝化层的方法
- 张应力 LPCVD SiO<sub>2</sub>膜的制造方法
- 一种SiO<sub>2</sub>减反射薄膜及其制备方法
- CVD SiC/SiO<sub>2</sub>梯度抗氧化复合涂层及其制备方法
- 通过由蒸汽相沉积和借助液体硅氧烷原料制造合成石英玻璃的方法
- 一种用于SiO<sub>2</sub>陶瓷及SiO<sub>2</sub>陶瓷基复合材料连接的钎料及其制备方法
- 荧光SiO2胶体试剂的制备方法及使用荧光SiO2胶体试剂的试纸
- 一种SiO2/GQDs–DNA–Au NPs纳米复合材料及其制备方法和应用
- 色彩可调的光子晶体装饰涂层及其制备方法
