[发明专利]用于检测基板表面缺陷的装置、系统和方法有效

专利信息
申请号: 201610826737.8 申请日: 2016-09-18
公开(公告)号: CN107845584B 公开(公告)日: 2020-10-30
发明(设计)人: 沈满华;伍强 申请(专利权)人: 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司;中芯国际集成电路制造(北京)有限公司
主分类号: H01L21/66 分类号: H01L21/66
代理公司: 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 代理人: 刘倜
地址: 201203 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 用于 检测 表面 缺陷 装置 系统 方法
【权利要求书】:

1.一种用于检测基板表面缺陷的装置,其特征在于,包括:

至少一个光学微透镜阵列,设置为与所述基板相邻,其每一个都包括以阵列形式布置的多个光学微透镜,用于将从其与所述基板相反的一侧照射在其上的入射光引导至所述基板的待检测表面,以及接收并会聚来自所述待检测表面的光;

成像部件,用于接收经过所述光学微透镜阵列会聚的来自于所述待检测表面的光以进行成像;其中所述成像部件包括多个成像单元,每一个成像单元与所述至少一个光学微透镜阵列中的各光学微透镜阵列的相应光学微透镜对应,每个成像单元包括多个像素以及用于透过所述入射光的透光开口,所述成像部件包括衬底,所述多个像素形成在所述衬底的表面上,所述衬底在与所述像素相反的表面中形成了多个凹陷;以及

入射微透镜阵列,其包括多个入射微透镜,每个入射微透镜用于接收来自光源的光并将其会聚以作为所述入射光照射到所述光学微透镜阵列的对应的光学微透镜上,所述入射微透镜阵列包括透光底板以及在所述透光底板的表面上的以阵列形式布置的多个入射微透镜,所述入射微透镜阵列被设置为与所述成像部件配合以使得所述入射微透镜被分别容纳在对应的凹陷中,所述入射微透镜将来自光源的光经过对应的凹陷会聚在所述透光开口中,以使得经过会聚的光通过所述透光开口,然后发散地照射到对应的光学微透镜上。

2.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述入射微透镜包括在所述透光底板上的柱形部分以及在柱形部分之上透镜部分。

3.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述至少一个光学微透镜阵列包括叠置的第一光学微透镜阵列和第二光学微透镜阵列;

所述至少一个光学微透镜阵列被配置为其每一个光学微透镜阵列中的光学微透镜的光轴与另一光学微透镜阵列中的相应光学微透镜的光轴彼此对准。

4.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

每个成像单元接收通过与其对应的光学微透镜的来自所述待检测表面的光的至少一部分。

5.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述透光开口设置在相应的成像单元的边缘处。

6.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述透光开口的大小与像素的大小相当。

7.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述成像单元的受光面为四边形,所述透光开口设置在所述四边形的顶角处。

8.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,

通过所述透光开口的所述入射光入射在光学微透镜阵列中的对应的光学微透镜的边缘部分,并且

所述光学微透镜阵列被配置为使得将入射在其光学微透镜的边缘部分的入射光引导到基板的待检测表面的处于其光学微透镜的视场中央的部分。

9.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

所述入射光和所述透光开口被配置为使得经过所述透光开口的光不超出衍射极限。

10.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,

来自所述待检测表面的光包括被所述待检测表面反射的反射光和通过所述待检测表面产生的衍射光。

11.根据权利要求1所述的装置,其特征在于,所述光学微透镜阵列还包括:

在光学微透镜边缘的支承部件,其能够用于支承与其邻接的光学微透镜。

12.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,其中

所述至少一个光学微透镜阵列包括叠置的第一光学微透镜阵列和第二光学微透镜阵列,并且

所述第一光学微透镜阵列的支承部件与所述第二光学微透镜阵列的支承部件彼此一一对准。

13.根据权利要求11所述的装置,其特征在于,其中所述支承部件由与光学微透镜相同的材料形成。

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