[发明专利]N-型醌式二噻吩场效应半导体材料及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201610824462.4 申请日: 2016-09-14
公开(公告)号: CN107814813B 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 朱晓张;任龙斌 申请(专利权)人: 中国科学院化学研究所
主分类号: C07D519/00 分类号: C07D519/00;H01L51/00;H01L51/50;H01L51/54
代理公司: 北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙) 11535 代理人: 刘元霞;牛艳玲
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 型醌式二 噻吩 场效应 半导体材料 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种化合物,其结构为如下通式(I)、(II)或(III)所示醌式二噻吩衍生物:

其中,X相同或不同,独立的选自:-O-,-S-,-Se-,-Te-;

R1、R2、R3、R4、R5、R6相同或不同,独立的选自:氢、卤素、C1-18烷基、C1-18烷氧基、-(O-(CH2)n-O)mH,其中,n、m独立的为1-8的整数;上述R1、R2、R3、R4、R5、R6基团中所述的C1-18烷基、C1-18烷氧基任选被一个或多个取代基取代,所述取代基独立的选自:C1-18烷基、C1-18烷氧基、硝基、氰基、卤素、卤代C1-18烷基、卤代C1-18烷氧基。

2.如权利要求1所述的化合物,其中,X为-S-。

3.如权利要求1所述的化合物,其中,所述通式(I)、(II)或(III)化合物选自如下具体化合物:

4.一种权利要求1-2任一项所述的化合物的制备方法,包括以下步骤:

其中,R’为卤素,R1、R2、R3、R4、R5、R6相同或不同,如权利要求1-2任一项所定义;

1)将通式(A)、(B)或(C)化合物分别与强碱、CNCH2CN、和催化剂进行反应;

2)将步骤1)中得到的各个产物在酸性条件下与氧化剂混合,分别得到通式(I)、(II)或(III)化合物。

5.根据权利要求4所述的制备方法,其中,所述氧化剂为二氯二氰基苯醌(DDQ)。

6.根据权利要求4所述的制备方法,其中,所述强碱为氢化钠,所述催化剂为四(三苯基膦)钯催化剂。

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