[发明专利]一种切趾光纤光栅刻写方法

权利要求书

1.一种切趾光纤光栅刻写方法，采用的刻写系统包括光学平台（100）、准分子激光器（1）、反射镜组（2）、光阑（3）、扩束柱透镜组（4）、聚焦柱透镜（5）、相位掩模板（6）和光纤夹持装置（7），所述反射镜组（2）安装在光学平台（100）上用于调节准分子激光器（1）出射光束的位置和高度，所述光阑（3）、扩束柱透镜组（4）、聚焦柱透镜（5）、相位掩模板（6）和光纤夹持装置（7）沿反射镜组（2）反射的出射光束的射出方向依次布置在光学平台（100）上，其特征在于：所述扩束柱透镜组（4）和聚焦柱透镜（5）之间设有切趾装置（8），所述切趾装置（8）包括具有正模板（811）和负模板（812）的振幅掩模板（81）以及安装于光学平台（100）上的升降驱动组件，所述振幅掩模板（81）安装于升降驱动组件的升降端；所述光纤夹持装置（7）包括两个光纤夹具（71）以及两个安装于光学平台（100）上驱动两个光纤夹具（71）绕与出射光束垂直的同一轴线旋转的旋转装置（72）；

所述方法包括以下步骤：

（a）设置好准分子激光器（1）的重复频率以及电压；调节升降驱动组件，使振幅掩模板（81）的正模板（811）下沿正好位于出射光束上沿；

（b）截取合适长度的光纤，将待刻写中间区域用化学剥除剂涂覆，再用酒精擦拭后将刻写光纤夹持在光纤夹持装置（7）的光纤夹具（71）上，将光纤与在线检测系统相连；

（c）使用准分子激光器控制器控制激光器（1）开始输出的同时启动切趾装置（8），通过升降驱动组件使振幅掩模板（81）下降，直至振幅掩模板正模板（811）的上沿正好位于出射光束下沿，此时停止准分子激光器（1）输出并停止振幅掩模板（81）的运动，在幅掩模板（81）下降的同时启动旋转装置（72）旋转光纤，在幅掩模板（81）下降的整个时间里面将光纤匀速地顺时针旋转180°，再逆时针旋转180°，在准分子激光器（1）停止输出激光的同时回到原点；然后降低相位掩模板高度，使光束移出栅区；

（d）补偿时，先通过升降驱动组件使振幅掩模板的负模板（812）的下沿正好位于出射光束的上沿，使用准分子激光器控制器控制激光器（1）开始输出的同时启动切趾装置（8），通过升降驱动组件使振幅掩模板（81）下降，直至振幅掩模板负模板（812）的上沿正好位于出射光束下沿，此时停止准分子激光器（1）输出并停止振幅掩模板（81）的运动，在幅掩模板（81）下降的同时启动旋转装置（72）旋转光纤，在幅掩模板（81）下降的整个时间里面将光纤匀速地顺时针旋转180°，再逆时针旋转180°，在准分子激光器（1）停止输出激光的同时回到原点。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述旋转装置（72）通过三维手动线位移平台（73）安装于光学平台（100）上。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述升降驱动组件包括竖直线性位移平台（82），所述竖直线性位移平台（82）的升降端设有载物台（821），所述振幅掩模板（81）装设于载物台（821）上。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于：所述竖直线性位移平台（82）通过一L型支架（83）安装于光学平台（100）上。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述反射镜组（2）包括两个针对248nm紫外激光高反的反射镜，两个反射镜安装在同一支柱上。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述旋转装置（72）为电动旋转平台。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于：各电动旋转平台具有供光纤穿过的贯通孔，所述贯通孔沿电动旋转平台的旋转轴线布置。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于：所述相位掩模板（6）通过六维调节架安装于光学平台（100）上。