[发明专利]一种基于介质集成波导缝隙天线的反射阵列天线在审

专利信息
申请号: 201610809028.9 申请日: 2016-09-07
公开(公告)号: CN107799881A 公开(公告)日: 2018-03-13
发明(设计)人: 车文荃;范冲;杨婉琛;金华燕;曹越 申请(专利权)人: 南京理工大学
主分类号: H01Q1/36 分类号: H01Q1/36;H01Q3/30;H01Q13/10;H01Q21/06
代理公司: 南京理工大学专利中心32203 代理人: 朱宝庆
地址: 210094 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 基于 介质 集成 波导 缝隙 天线 反射 阵列
【权利要求书】:

1.一种基于介质集成波导缝隙天线的反射阵列天线,包括若干个呈周期性排列的介质集成波导缝隙天线单元(1),其特征在于,每个介质集成波导缝隙天线单元(1)均包括从上至下依次粘连在一起的上层金属层(2)、上层介质基板(3)、中间金属层(4)、下层介质基板(5)、下层金属层(6),每个介质集成波导缝隙天线单元(1)还包括上层介质集成波导(8)和下层介质集成波导(10);其中

上层金属层(2)和中间金属层(4)上分别设置上层辐射缝隙(7)和中层耦合缝隙(9)且缝隙间相互垂直设置且均偏离各自所在层所平行的中心线且关于各自所在层所垂直的中心线对称设置,

上层介质集成波导(8)若干均设置于上层介质基板(3)中且每一上层介质集成波导(8)上、下两端分别与上层金属层(2)和中间金属层(4)相连接,上层介质集成波导(8)金属通孔成等间距排列,

下层介质集成波导(10)若干均设置于下层介质基板(5)中且每一下层介质集成波导(10)上、下两端分别与中间金属层(4)和下层金属层(6)相连接,下层介质集成波导(10)金属通孔成等间距排列,与中层耦合缝隙(9)相距较远的一边的下层介质集成波导(10)距中层耦合缝隙(9)的间距可调以改变下层介质集成波导(10)的长度;

所述介质集成波导缝隙天线单元(1)中下层介质集成波导(10)的长度间不完全相同。

2.根据权利要求1所述的反射阵列天线,其特征在于,介质集成波导缝隙天线单元(1)的尺寸相同且长宽相等,长宽均为0.4λ~λ,其中λ为自由空间波长。

3.根据权利要求1所述的反射阵列天线,其特征在于,所述上层介质集成波导(8)和下层介质集成波导(10)的金属通孔直径相同且均为0.1~0.5mm,相邻的金属通孔的间距为金属通孔直径的2~4倍。

4.根据权利要求3所述的反射阵列天线,其特征在于,所述上层介质集成波导(8)相邻金属通孔间的间距与下层介质集成波导(10)相邻金属通孔间的间距可相同也可不同。

5.根据权利要求1所述的反射阵列天线,其特征在于,上层介质基板(3)和下层介质基板(5)的介电常数εr相同为1~10.2,厚度相同为0.01λ~0.2λ,其中λ为自由空间波长。

6.根据权利要求1所述的反射阵列天线,其特征在于,上层辐射缝隙(7)和中间耦合缝隙(9)的宽度为0.1mm~0.6mm,缝隙长度为0.4λg~0.6λg,其中λg为波导波长,上层辐射缝隙(7)偏离中心线的间距为0.05mm~1mm,中间耦合缝隙(9)偏离单元边缘的间距大小为0.2mm~1mm。

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