[发明专利]一种硅纳米线/银-四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构的制备方法有效

专利信息
申请号: 201610776643.4 申请日: 2016-08-31
公开(公告)号: CN106809800B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 韩爱英;赵晓宇;田飞;韩瑞平 申请(专利权)人: 宇瑞(上海)化学有限公司
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;B82Y40/00
代理公司: 上海宏京知识产权代理事务所(普通合伙) 31297 代理人: 邓文武
地址: 201199 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 纳米 四氰基 苯醌 甲烷 复合 结构 制备 方法
【说明书】:

发明公开了一种硅纳米线/银‑四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.将硅片置于氢氟酸和硝酸银的混合溶液中反应,反应后用去离子水冲洗硅片;S2.将S1中反应后的硅片和四氰基对苯醌二甲烷粉末装入玻璃管中,并放置于加热台上,对玻璃管进行加热,冷却后用丙酮清洗即可在硅片上得到硅纳米线/银‑四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构。本发明硅纳米线/银‑四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构的制备方法成本低、反应温和,获得硅纳米线/银‑四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构具备优异的场发射性能。

技术领域

本发明涉及复合结构制备方法领域,尤其涉及一种硅纳米线/银-四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构的制备方法。

背景技术

金属-四氰基对苯醌二甲烷(金属-TCNQ)是一种电荷转移型金属有机配合物,具有十分特殊的电子结构。有关金属-TCNQ的光存储特性、光电开关特性、气敏特性和场发射性能的研究不断见诸报道(Muller, R.; Genoe, J.; Heremans, P. Appl. Phys. Lett.2006, 88, 242105;Potember, R. S.; Poehler, T. O. Appl. Phys. Lett. 1979, 34,405;Liu, H. B.; Zhao, Q.; Li, Y. L. J.et.al. J. Am. Chem. Soc. 2005, 127,1120),并引起了人们极大的兴趣。利用金属-TCNQ作为光记录介质已进入商用试验阶段,显示出巨大的应用前景。

尽管目前有许多制备金属-TCNQ的方法,但是制备过程比较繁琐,并且多数采用在金属基片上进行反应,得到的金属-TCNQ纳米线长径比受到限制,影响着金属-TCNQ的场发射性能。刘辉彪等在公开日为2008年1月9日,公开号为CN101100737A中公开了一种制备金属-TCNQ纳米线的方法,该方法直接把金属基片与TCNQ置于管式炉中,在保护气氛下恒温加热反应,在金属基片上得到金属-TCNQ纳米线。该方法需要金属基片,且反应过程中需要惰性气体保护,同时得到的金属-TCNQ纳米线长径比受到限制,不利于金属-TCNQ作为光记录介质的推广使用。

发明内容

为了解决现有技术中的问题,本发明的目的是提供一种在常压下制备硅纳米线/银-四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构的方法。该制备方法简单、成本低、反应温和,通过改变反应条件可以获得不同尺寸的硅纳米线/银-四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构,实现尺寸可控的效果。

为了实现上述目的,本发明采用的技术方案:一种硅纳米线/银-四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:S1.将硅片置于氢氟酸和硝酸银的混合溶液中,反应后用去离子水冲洗硅片,获得硅纳米线;S2.将S1中反应后的硅片和四氰基对苯醌二甲烷粉末分别装入玻璃管中,并放置于加热台上,对玻璃管进行加热,冷却后用丙酮冲洗硅片,即可在硅片上得到硅纳米线/银-四氰基对苯醌二甲烷纳米线复合结构。

其中,所述S1中的硅片在使用前分别用丙酮、浓度为0.1 mol/L的稀盐酸、去离子水和乙醇超声清洗。

其中,所述S1中的硅片尺寸为1cm×1cm。

其中,所述S1中的混合溶液为4.6 mol/L的氢氟酸溶液和0.04 mol/L的硝酸银溶液混合而成。

其中,所述S1中的反应温度为50-55℃。

其中,所述S1中的反应时间为5~40分钟。

其中,所述S1中的反应时间为5~10分钟时,得到的硅纳米线长度为10-35微米,直径为60-200纳米。

其中,所述S2中的四氰基对苯醌二甲烷粉末的用量为1-2毫克。

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