[发明专利]一种TFT‑LCD制造工艺中的双面刻蚀方法在审
| 申请号： | 201610757778.6 | 申请日： | 2016-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN106292031A | 公开（公告）日： | 2017-01-04 |
| 发明（设计）人： | 洪朝满 | 申请（专利权）人： | 红河凯立特科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1333 | 分类号： | G02F1/1333;G02F1/13;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 | 代理人： | 史明罡 |
| 地址： | 661100 云南省红河哈尼族彝族*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 tft lcd 制造 工艺 中的 双面 刻蚀 方法 | ||
【说明书】：
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