[发明专利]表面改性掩模板、其制作方法、电致发光器件的制作方法

权利要求书

1.一种表面改性掩模板，所述表面改性掩模板具有多个镂空部（10），其特征在于，所述表面改性掩模板具有改性表面（20），所述改性表面（20）包括第一改性表面（210）和第二改性表面（220），所述第一改性表面（210）围绕所述镂空部（10），所述第一改性表面（210）之外的所述改性表面（20）为所述第二改性表面（220），且所述第一改性表面（210）和所述第二改性表面（220）不同且分别选自亲水性表面和疏水性表面中的一种。

2.一种掩模板的表面改性方法，其特征在于，包括以下步骤：

对具有多个镂空部（10）的掩模板的表面进行改性，形成改性表面（20），其中，所述改性表面（20）包括第一改性表面（210）和第二改性表面（220），所述第一改性表面（210）围绕所述镂空部（10），所述第一改性表面（210）之外的所述改性表面（20）为所述第二改性表面（220），且所述第一改性表面（210）和所述第二改性表面（220）不同且分别具有亲水性或疏水性。

3.根据权利要求2所述的表面改性方法，其特征在于，所述表面改性方法包括：

步骤S01，将掩模板浸入具有疏水性材料的溶液中，以使所述疏水性材料固定于所述掩模板的表面；

步骤S02，将固定有所述疏水性材料的所述掩模板与所述溶液分离，并对所述掩模板进行干燥处理；

步骤S03，将第一光罩设置于所述掩模板的第一表面上，所述第一光罩由多个第一遮挡部以及连接各所述第一遮挡部的第一透光部组成，所述第一遮挡部与所述镂空部（10）一一对应，且各所述第一遮挡部的面积大于与其对应的各所述镂空部（10）的面积，通过第一光罩对所述第一表面进行紫外线臭氧光解氧化，再对所述掩模板的与所述第一表面相对的第二表面进行紫外线臭氧光解氧化，以形成具有亲水性的第二改性表面（220），所述掩模板的其余表面构成具有疏水性的所述第一改性表面（210）；或

将第二光罩设置于所述掩模板上，所述第二光罩由多个第二透光部以及连接各所述第二透光部的第二遮挡部组成，且所述第二透光部与所述镂空部（10）一一对应，且各所述第二透光部的面积大于与其对应的各所述镂空部（10）的面积，对所述掩模板进行紫外线臭氧光解氧化，以使所述掩模板的对应所述第二透光部的表面形成具有亲水性的第一改性表面（210），所述掩模板的其余表面构成具有疏水性的所述第二改性表面（220）。

4.根据权利要求3所述的表面改性方法，其特征在于，在所述步骤S01中，所述疏水性材料为含氟的硅烷偶联剂。

5.一种电致发光器件的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤S1，提供具有像素隔离结构的第一电极基板，所述像素隔离结构具有多个相互隔离的子像素区域；

步骤S2，将权利要求1所述的表面改性掩模板设置于所述第一电极基板的具有所述像素隔离结构的一侧，所述表面改性掩模板的第一改性表面远离所述第一电极基板设置，且所述表面改性掩模板的一个或多个镂空部对应至少部分所述子像素区域中的各所述子像素区域设置；

步骤S3，采用溶液法使与所述表面改性掩模板的第一改性表面具有相同亲疏水性的墨水通过所述镂空部进入对应的所述子像素区域中；

步骤S4，将所述子像素区域中的所述墨水干燥，形成发光层或功能层。

6. 根据权利要求5所述的制作方法，其特征在于，

所述墨水为空穴注入材料墨水、空穴传输材料墨水、电子注入材料墨水和电子传输层材料墨水中的任一种，在所述步骤S4中，将所述墨水干燥，以形成对应的空穴注入层、空穴传输层、电子注入层或电子传输层；或

所述墨水为量子点材料墨水和有机发光材料墨水中的任一种，在所述步骤S4中，将所述墨水干燥，以形成对应的量子点发光层或有机发光层。

7.根据权利要求6所述的制作方法，其特征在于，当所述墨水为量子点材料墨水时，所述制作方法还包括至少重复一次所述步骤S2至S4的过程，各次重复过程中，所采用的表面改性掩模板的镂空部对应不同的子像素区域，所采用的墨水的发光颜色也不同。