[发明专利]一种基于飞秒激光的菲涅尔波带片阵列制作方法及应用有效
申请号: | 201610720185.2 | 申请日: | 2016-08-25 |
公开(公告)号: | CN106271088B | 公开(公告)日: | 2019-02-26 |
发明(设计)人: | 涂成厚;蔡孟强;潘岳;戴凡;李勇男;王慧田 | 申请(专利权)人: | 南开大学 |
主分类号: | G02B3/00 | 分类号: | G02B3/00;B23K26/262;B81C99/00 |
代理公司: | 天津佳盟知识产权代理有限公司 12002 | 代理人: | 侯力 |
地址: | 300071*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 菲涅尔波带片 飞秒激光 排列方式 直接加工 加工 制作 微结构阵列 加工效率 微纳结构 波带片 微结构 应用 聚焦 | ||
1.一种基于飞秒激光的菲涅尔波带片阵列直接加工微纳结构的方法,该飞秒激光的菲涅尔波带片阵列的制作机构包括:入射飞秒激光脉冲(1)、菲涅尔波带片阵列(2)、待加工的样品(3)、三维移动平台(4)和二维电控平移台(5);其特征在于:
所述的菲涅尔波带片为透明介质材料制成的两面抛光的透明介质薄片,入射飞秒激光脉冲(1)经紧聚焦后在透明介质薄片表面上直接烧蚀孔结构,同时利用三维移动平台(4)移动透明介质薄片,使得烧蚀的位置沿菲涅尔波带片的奇数或偶数环带结构内的同心圆轨迹移动,从而在透明介质薄片表面烧蚀单个菲涅尔波带片结构;然后通过二维电控平移台(5)对透明介质薄片进行移动,根据给定的空间排列方式加工出菲涅尔波带片阵列(2);其中,飞秒激光烧蚀的菲涅尔波带片直径为200μm,被加工的环带数为28个,且第一个环带的内环半径ρ1为13.36μm;多个相同的菲涅尔波带片按规律排列成菲涅尔波带片阵列(2);
入射飞秒激光脉冲(1)经所述的菲涅尔波带片阵列(2)后聚焦成多焦斑阵列,该多焦斑阵列在待加工的样品(3)表面上直接烧蚀多孔结构,通过三维移动平台(4)控制待加工的样品(3)按预定轨迹移动得到所需图形的微纳结构阵列。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的透明介质薄片为熔融石英玻璃、BK7玻璃或铌酸锂晶体。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的待加工的样品(3)为半导体或金属材料。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所述的微纳结构为长方形阵列结构、圆形阵列结构或椭圆形阵列结构。
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