[发明专利]一种去除冶金级硅中杂质的方法有效
| 申请号： | 201610706125.5 | 申请日： | 2016-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN106115717B | 公开（公告）日： | 2019-04-09 |
| 发明（设计）人： | 雷云;马文会;谢克强;吕国强;伍继君;魏奎先;秦博;李绍元;刘战伟;于洁;戴永年 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | C01B33/037 | 分类号： | C01B33/037 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 去除 冶金 级硅中 杂质 方法 | ||
【说明书】：
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