[发明专利]一种制版用车磨抛复合机床在审

专利信息
申请号: 201610687489.3 申请日: 2016-08-18
公开(公告)号: CN107756034A 公开(公告)日: 2018-03-06
发明(设计)人: 谭红卫 申请(专利权)人: 谭红卫
主分类号: B23P23/04 分类号: B23P23/04;B23Q11/00
代理公司: 广州嘉权专利商标事务所有限公司44205 代理人: 利宇宁
地址: 529300 广东省江门*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 制版 用车磨抛 复合 机床
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种制版用车磨抛复合机床。

背景技术

传统的凹印制版需要用到版辊,需要在车床上对版辊先进行车削,然后再在磨床上打磨和抛光,使用的设备多,装卸消耗的时间多,另外,由于版辊重量较大,采用顶尖式夹具装载版辊会造成版辊偏心,难以保证版辊的加工要求,加工后的铁屑和金属粉末经常堵塞夹具,影响夹具的正常使用。

发明内容

为了克服现有技术的不足,本发明提供一种制版用车磨抛复合机床,结构简单,采用卡盘式夹具装载版辊,便于清除夹具中堵塞的铁屑和金属粉末。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案:

一种制版用车磨抛复合机床,包括床身,所述的床身的一端设有机头,所述的床身另一端设有尾架,所述的床身在机头和尾架之间设有横向导轨,所述的机头和尾架设有用以夹持工件的三爪卡盘,所述的机头设置有控制面板和用以驱动三爪卡盘旋转的旋转驱动装置,所述横向导轨在前端设置有车刀跟刀架和磨抛跟刀架,所述的车刀跟刀架和磨抛跟刀架设有横向行走架,所述横向行走架连接有横向行走驱动装置,所述横向行走架上垂直于所述三爪卡盘4回转轴线的方向设有垂直导轨,所述垂直导轨上设有垂直行走架,所述垂直行走架连接有垂直行走驱动装置,所述车刀跟刀架上设有车刀夹持机构,所述磨抛跟刀架上设有用以安装磨具或抛光工具的磨抛夹持机构,所述的三爪卡盘设有空隙和与空隙相连通并用以清除空隙铁屑和粉尘的三个气嘴。。

进一步地,所述的床身设有吸尘器。

更进一步地,所述的床身后端和尾架设有挡板。

更进一步地,所述的气嘴呈圆柱形,其外径为5~10mm。

更进一步地,所述的气嘴表面粗糙度为1.6或0.8或0.4。

本发明的有益效果是:同一台机床上同时设置有车磨抛功能,减少设备的同时,省去不同工序版辊在不同设备上的装卸时间,大大缩短生产时间,提高生产效率,改装成用三爪卡盘进行夹持,可以有效地调整版辊的两端的同心度,防止过大的偏心,停机时用气缸分别与气嘴对接通气,可以非常方便快捷地将三爪卡盘中的铁屑和粉尘清除吹出。

附图说明

下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。

图1是本发明的结构示意图;

图2是三爪卡盘的结构示意图。

具体实施方式

参照图1 ~2,一种车磨抛复合机床,包括床身1,床身1的一端设有机头2,床身1另一端设有尾架3,床身1在机头2和尾架3之间设有横向导轨4,机头2和尾架3设有用以夹持工件的三爪卡盘4,改装成用三爪卡盘4进行夹持,可以有效地调整版辊的两端的同心度,防止过大的偏心,机头2设置有控制面板21和用以驱动三爪卡盘4旋转的旋转驱动装置,横向导轨5在前端设置有车刀跟刀架61和磨抛跟刀架52,同一台机床上同时设置有车磨抛功能,减少设备的同时,省去不同工序版辊在不同设备上的装卸时间,大大缩短生产时间,提高生产效率,车刀跟刀架61和磨抛跟刀架52设有横向行走架511,横向行走架511连接有横向行走驱动装置,横向行走架511上垂直于所述三爪卡盘4回转轴线的方向设有垂直导轨512,垂直导轨512上设有垂直行走架513,垂直行走架513连接有垂直行走驱动装置,车刀跟刀架61上设有车刀夹持机构,磨抛跟刀架52上设有用以安装磨具或抛光工具的磨抛夹持机构,三爪卡盘4设有空隙41和与空隙41相连通并用以清除空隙41铁屑和粉尘的三个气嘴42,停机时用气缸分别与气嘴42对接通气,可以非常方便快捷地将三爪卡盘4中的铁屑和粉尘清除吹出。

本实施例中,优选的,床身1设有吸尘器,由于对版辊进行磨抛工序时,会产生很多的金属粉尘,这些金属粉尘无论是对工人和安全生产来说都是有很大坏处的,使用专用的吸尘器吸取大部分的金属粉尘,保障生产安全和工人健康,同时也可以有效回收金属粉尘。

本实施例中,优选的,床身1后端和尾架3设有挡板,对版辊进行车削及抛磨工序时,保障铁屑和粉尘落入安全的回收区域。

本实施例中,优选的,气嘴42呈圆柱形,其外径为5~10mm,使用合适大小的气嘴42,将铁屑和粉尘有效地清除吹出。

本实施例中,优选的气嘴42表面粗糙度为1.6或0.8或0.4,停机时,通过气管将气嘴42和气缸相连通,1.6或0.8或0.4的表面粗糙度适合气管与气嘴42配合。

以上所述,只是本发明的较佳实施方式而已,但本发明并不限于上述实施例,只要其以任何相同或相似手段达到本发明的技术效果,都应落入本发明的保护范围之内。

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