[发明专利]图案描画装置及图案描画方法有效

专利信息
申请号: 201610640932.1 申请日: 2016-08-08
公开(公告)号: CN107436537B 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 中岛瑛利子 申请(专利权)人: 亚得科技工程有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F9/00
代理公司: 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 代理人: 田喜庆;吴孟秋
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 图案 描画 装置 方法
【说明书】:

本发明提供图案描画装置及图案描画方法。图案描画装置包括:第一摄像部,读取对准标记,并读取位置偏差检测用的第一图案的图像;第二摄像部,读取所述第一图案的图像,并读取边进行工作台与光学头间的相对移动、边通过来自所述光学头的照射光描画出的位置偏差检测用的第二图案的图像;以及位置偏差检测部,基于所述第一摄像部的读取图像求出该第一摄像部的视野中心与所述第一图案的中心之间的第一坐标差,并基于所述第二摄像部的读取图像求出所述第一图案的中心与所述第二图案的特定位置之间的第二坐标差。

技术领域

本发明涉及从光学头照射激光至放置于工件台上的作为工件的基板上的感光材料来描画布线图案等的图案描画装置及图案描画方法。

背景技术

在这种图案描画装置中,通常,考虑到构成元素间的位置关系在实际的描画阶段与设计值并不相同而事先检测其位置偏差,以校正描画位置。

例如,在专利文献1中公开有一种下述的图案描画装置,其通过分别检测用于读取形成于基板上的、作为位置调整用的基准的对准标记(以下称为AM)的AM用摄像机与位置偏差检测用的校正图案间的位置偏差、以及光学头的脉冲光与校正图案间的位置偏差,从而来检测AM用摄像机与光学头间相对于设计值的位置偏差。

位置偏差检测动作优选在接近于实际描画动作的状态下进行,如果不那样的话,甚至连该检测时期的差异都会产生位置偏差。具体而言,工件台相对于光学头的相对移动动作与激光照射系统中的照射时机的时间性偏差表现为位置偏差。在要求更高精度的图案描画的情况下,该位置偏差将变得不可忽视,而在专利文献1的位置偏差检测方式中,对于这样的问题完全未作考虑。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2008-65034号公报

发明内容

发明要解决的技术问题

因此,本发明的目的在于,在以形成于工件上的作为描画位置的基准的对准标记的读取位置为基准来控制放置所述工件的工作台与光学头间的相对移动量的图案描画方式中,使之能够高精度地检测相对于设计值的位置偏差。

用于解决技术问题的方案

在本申请公开的发明中,代表性的图案描画装置具有光学头,并以形成于工件上的作为描画位置的基准的对准标记的读取位置为基准控制放置所述工件的工作台与所述光学头间的相对移动量,使得通过所述光学头将图案描画于所述工件上,其特征在于,包括:第一摄像部,读取所述对准标记,并读取位置偏差检测用的第一图案的图像;第二摄像部,读取所述第一图案的图像,并读取边进行所述工作台与所述光学头间的相对移动、边通过来自所述光学头的照射光描画出的位置偏差检测用的第二图案的图像;以及位置偏差检测部,基于所述第一摄像部的读取图像求出该第一摄像部的视野中心与所述第一图案的中心之间的第一坐标差,并基于所述第二摄像部的读取图像求出所述第一图案的中心与所述第二图案的特定位置之间的第二坐标差。

另外,在本申请公开的发明中,代表性的图案描画方法以形成于工件上的作为描画位置的基准的对准标记的读取位置为基准控制放置所述工件的工作台与光学头间的相对移动量,使得通过所述光学头而将图案描画于所述工件上,其特征在于,包括:第一工序,通过用读取所述对准标记的第一摄像部来读取位置偏差检测用的第一图案的图像,从而求出该第一摄像部的视野中心与所述第一图案的中心之间的第一坐标差;第二工序,边进行所述工作台与所述光学头间的相对移动,边通过来自所述光学头的照射光来描画位置偏差检测用的第二图案;以及第三工序,基于读取所述第一图案和所述第二图案的图像的第二摄像部的读取图像而求出所述第一图案的中心与所述第二图案的特定位置之间的第二坐标差。

发明效果

根据本发明,在以形成于工件上的作为描画位置的基准的对准标记的读取位置为基准来控制放置所述工件的工作台与光学头间的相对移动量的图案描画方式中,能够高精度地检测相对于设计值的位置偏差。

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