[发明专利]一种太阳能热发电反射镜用SiO2-Ag-SiO2复合膜及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201610634821.X 申请日: 2016-08-05
公开(公告)号: CN106399940B 公开(公告)日: 2018-12-11
发明(设计)人: 李宏;贺慧婷 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: C23C14/10 分类号: C23C14/10;C23C14/18;C23C14/35;C03C17/36
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 唐万荣
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 保护层 反射层 过渡层 太阳能热发电 玻璃基板 反射镜 复合膜 膜层 射频磁控溅射 材料生产 高反射率 户外使用 附着性 制备 制造
【权利要求书】:

1.一种太阳能热发电反射镜用SiO2-Ag-SiO2复合膜,其特征在于,它包含玻璃基板以及形成于玻璃基板上的膜层;膜层由过渡层、反射层和保护层构成,过渡层、反射层和保护层依次从玻璃基板的表面向外布置,过渡层、反射层、保护层均是通过射频磁控溅射法制得;所述的过渡层的材料为SiO2,厚度为20nm-50nm;所述的反射层的材料为Ag,厚度为100nm-200nm;所述的保护层的材料为SiO2,厚度为50nm-150nm。

2.如权利要求1所述的一种太阳能热发电反射镜用SiO2-Ag-SiO2复合膜的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

1)选取普通载玻片,用洗洁精多次清洗,洗掉表面的杂质然后用自来水冲刷干净,再放入去离子水中超声波清洗10-30min,最后放入无水乙醇中超声波清洗10-30min,得到玻璃基板;将清洗好的玻璃基板保存在无水乙醇中备用;

2)在玻璃基板上制备过渡层:方法是用射频磁控溅射沉积方式,SiO2靶材尺寸为Φ76.2×5mm,纯度为99.999wt%,溅射气体为体积分数为99.999%的高纯氩,溅射室真空度为4.0×10-4Pa,工作气压为0.5-1.5Pa,靶基距固定在60-100mm,氩流量为40sccm,溅射功率为100-200W,溅射时间为10-30min;在玻璃基板上得到一过渡层;

3)在过渡层上制备反射层:方法是用射频磁控溅射沉积方式,反射层的材料为银,银的靶材尺寸为Φ45×4mm,纯度为99.99wt%,溅射气体为体积分数为99.999%的高纯氩,溅射室真空度为4.0×10-4Pa,工作气压为0.5-1.5Pa,靶基距固定在60-100mm,氩流量为40sccm,溅射功率为100-200W,溅射时间为10-30min;

4)在反射层上制备保护层:方法是用射频磁控溅射沉积方式,保护层的材料为SiO2,靶材尺寸为Φ76.2×5mm,纯度为99.999wt%,溅射气体为体积分数为99.999%的高纯氩,溅射室真空度为4.0×10-4Pa,工作气压为0.5-1.5Pa,靶基距固定在60-100mm,氩流量为40sccm,溅射功率为100-200W,溅射时间为20-40min;得到太阳能热发电反射镜用SiO2-Ag-SiO2复合膜。

3.根据权利要求2所述的一种太阳能热发电反射镜用SiO2-Ag-SiO2复合膜的制备方法,其特征在于:在步骤2)、3)、4)中,溅射前均需对靶材进行5分钟的预溅射。

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